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| 热处理温度对ZnO薄膜结构特性的影响 | |
| 引用本文： | 陈薇薇,刘志学,张冰.热处理温度对ZnO薄膜结构特性的影响[J].牡丹江师范学院学报(自然科学版),2012(1):13-14. |
| 作者姓名： | 陈薇薇 刘志学 张冰 |
| 作者单位： | 牡丹江师范学院黑龙江省新型碳基功能与超硬材料重点实验室,黑龙江牡丹江,157012 |
| 基金项目： | 牡丹江师范学院研究生学术科技创新项目，牡丹江师范学院科研项目 |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在玻璃基底上制备出具有c轴择优取向的ZnO透明导电薄膜,利用X射线衍射仪、隧道扫描显微镜、紫外-可见分光光度计、霍尔效应仪等仪器分析退火温度对ZnO薄膜的表面形貌、光电性能的影响.结果表明,随着退火温度的升高,薄膜的结晶质量提高,晶粒尺寸变大,薄膜的致密性提高,薄膜在可见光范围的平均透射率达到80%以上,并且电学性能有所提高. |
| 关 键 词： | 磁控溅射 ZnO 退火温度 |
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