| 自动投影光刻中的暗场对准技术 |
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| 引用本文： | 徐振明,贾惠波,齐国生,石宁,王燕,徐端颐.自动投影光刻中的暗场对准技术[J].清华大学学报(自然科学版),1994(5). |
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| 作者姓名： | 徐振明 贾惠波 齐国生 石宁 王燕 徐端颐 |
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| 作者单位： | 清华大学精密仪器及机械学系 |
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| 摘 要： | 暗场对准技术是利用光学暗场成像原理和微光真空光电探测技术，使投影光刻硅片上的标记获得大幅值、高信噪比的对准信号通过双池偏差优化软件，借助计算机进行采样控制和数据处理，从而获得很高的对准精度。对多种不同工艺硅片上的标记进行对准试验，精度达０．２μｍ（３σ）。该技术精度高，对硅片光刻工艺的适应性广，可用于大规模集成电路生产硅片光刻时的实际对准工作，使我国的投影光刻技术进入１μｍ特性线宽的实用阶段。
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| 关 键 词： | 暗场 对准 光电倍增管 二分电池 精度 |
A dard field alignment technique in the stepper |
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| Xu Zhenming,Jia Huibo,Qi Guosheng,Shi Ning,Wang Yan,Xu Duanyi.A dard field alignment technique in the stepper[J].Journal of Tsinghua University(Science and Technology),1994(5). |
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| Authors: | Xu Zhenming Jia Huibo Qi Guosheng Shi Ning Wang Yan Xu Duanyi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | dark field alignment photomultipler (PMT) bi-cell accuracy |
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