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掺Nd硅基氧化薄膜光致发光特性研究
引用本文:夏秀文,王水凤,元美玲.掺Nd硅基氧化薄膜光致发光特性研究[J].井冈山学院学报,2002(5).
作者姓名:夏秀文  王水凤  元美玲
作者单位:井冈山师范学院物理系 江西吉安343009 (夏秀文),南昌大学物理系 江西南昌330047 (王水凤),南昌大学物理系 江西南昌330047(元美玲)
摘    要:通过对SiO2∶Nd的PL谱分析,并与SiO2∶La、SiO2∶Ce、Si+SiO2、C+SiO2等的PL谱进行比较,总结出薄膜光致发光的一些特性

关 键 词:硅基氧化膜发光  光致发光  稀土掺杂

Study of photoluminescence propertiesin Nd-doped-Si-based oxide films
XIA Xiu-wen,WANG Shui-feng,Yuan Mei-ling.Study of photoluminescence propertiesin Nd-doped-Si-based oxide films[J].Journal of Jinggangshan University,2002(5).
Authors:XIA Xiu-wen  WANG Shui-feng  Yuan Mei-ling
Institution:XIA Xiu-wen1,WANG Shui-feng2,Yuan Mei-ling2
Abstract:
Keywords:
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