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多孔硅的电迁移
引用本文:李怀祥,张华,王瑞华,赵婧.多孔硅的电迁移[J].山东师范大学学报(自然科学版),2004,19(1):37-39.
作者姓名:李怀祥  张华  王瑞华  赵婧
作者单位:山东师范大学化学化工与材料科学学院,250014,济南
基金项目:国家自然科学基金,山东省自然科学基金资助课题 ( 60 0 710 0 6,Y2 0 0 2G11)
摘    要:研究了多孔硅在甲苯中组成的悬浮体系的电迁移特性。电阻率为80~100Ωcm的n型(111)抛光片,氢氟酸溶液中电化学阳极刻蚀成多孔硅再经过超声振荡得到多孔硅,甲苯悬浮体系.以新抛光铝为负极,在外加电场作用下,多孔硅向p^ -Si、ITD导电璃、Pt、Al、Ag等正极迁移并沉积在这些正极表面构成多孔硅薄膜。考察了不同的电沉积参数,例如电场强度、沉积时间对多孔硅薄膜光致荧光强度的影响.采用UFV-vis光谱、XPS、SBM的方法对悬浮体系以及沉积膜进行了分析。

关 键 词:多孔硅  电迁移  悬浮体系  光致荧光

ELECTROPHORETIC MOBILIZATION OF POROUS SILICON IN TOLUENE
Li Huaixiang,Zhang Hua,Wang Ruihua,Zhao Jing.ELECTROPHORETIC MOBILIZATION OF POROUS SILICON IN TOLUENE[J].Journal of Shandong Normal University(Natural Science),2004,19(1):37-39.
Authors:Li Huaixiang  Zhang Hua  Wang Ruihua  Zhao Jing
Abstract:
Keywords:porous silicon  suspension in toluene  electrophoresis deposition  photoluminescence
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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