| 直流气体放电活化反应蒸发沉积SnO_x超微粒子薄膜 |
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| 引用本文： | 朱以华,赵大春,戴慕仉,潘孝仁.直流气体放电活化反应蒸发沉积SnO_x超微粒子薄膜[J].华东理工大学学报(自然科学版),1992(5). |
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| 作者姓名： | 朱以华 赵大春 戴慕仉 潘孝仁 |
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| 作者单位： | 华东化工学院物理系
(朱以华，赵大春)，华东化工学院精细化工所
(戴慕仉)，华东化工学院物理系(潘孝仁) |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(编号:190174016) |
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| 摘 要： | 制得的SnO_x薄膜,用扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析,显示为平均颗粒小于50nm的超微粒子薄膜。其中组成颗粒的晶粒大小平均为5.0～8.0nm。讨论了沉膜过程中基底温度、氧气分压、放电电压、蒸发源温度和反应蒸镀时间对薄膜结构和性质的影响。得到了制备SnO_2相含量较高,且接近无色透明的超微粒子薄膜的最佳工艺条件。
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| 关 键 词： | 氧化锡 蒸发法 薄膜 沉积 粒状结构 超微粒子 |
Deposition of SnO_x Ultrafine Particle Films (UPF) by DC Gas Discharge Activated Reactive Evaporation |
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| Zhu Yihua,Zhao Dachun,Dai Muzhang.Deposition of SnO_x Ultrafine Particle Films (UPF) by DC Gas Discharge Activated Reactive Evaporation[J].Journal of East China University of Science and Technology,1992(5). |
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| Authors: | Zhu Yihua Zhao Dachun Dai Muzhang |
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| Institution: | Zhu Yihua~*,Zhao Dachun,Dai Muzhang~ |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | tin oxide evaporation films deposition grannlar structure ultrafine particle |
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