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HNO3处理多孔硅高效发光的研究
引用本文:王水凤  姜乐  戴丽丽,王震东  元美玲.HNO3处理多孔硅高效发光的研究[J].江西科学,2005,23(4):363-365.
作者姓名:王水凤  姜乐  戴丽丽  王震东  元美玲
作者单位:王水凤(南昌大学理学院,江西,南昌,330047);姜乐(南昌大学材料科学与工程系,江西,南昌,330047);戴丽丽(南昌大学材料科学与工程系,江西,南昌,330047);王震东(南昌大学理学院,江西,南昌,330047);元美玲(南昌大学理学院,江西,南昌,330047)
基金项目:江西省自然基金项目(0312006).
摘    要:在实验室条件下对P型单晶硅片进行阳极电化学腐蚀制成多孔硅(Porous Silicon)样片,同时用适当配比的HNO3对多孔硅进行处理.比较了HNO3作用前后样片的光致发光(PL)谱,结果发现用HNO3处理的多孔硅的发光效率有显著提高.用XPS和SEM对样片测试的结果表明酸处理后样片表面形成Si-O结构,其表面平均孔径增大,而且分布更均匀.

关 键 词:多孔硅  光致发光  HNO3
文章编号:1001-3679(2005)04-0363-04
修稿时间:2005年4月17日

Investigation on the Photoluminescence Properties of Porous Silicon Film after Being Treated by HNO3
WANG Shui-feng.Investigation on the Photoluminescence Properties of Porous Silicon Film after Being Treated by HNO3[J].Jiangxi Science,2005,23(4):363-365.
Authors:WANG Shui-feng
Abstract:
Keywords:
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