MOCVD制备GaAs/AlGaAs多量子阱的光致发光特性 |
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引用本文: | 程兴奎,黄柏标.MOCVD制备GaAs/AlGaAs多量子阱的光致发光特性[J].山东大学学报(自然科学版),1996,31(4):471-475. |
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作者姓名: | 程兴奎 黄柏标 |
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摘 要: | 对MOCVD生长的GaAs/AlxGa1-xAs多量子阱结构进行了光致发光特性的测量。结果观察到三个发光峰;位于1.664eV处的峰是自由激子发光;峰值处于1.48leV的发光是GaAs中施主Si(Ga)原子上的电子向受主Si(As)跃迁引起的;而在1.529eV处的弱发光峰是GaAs阱层中Si(Ga)原子上的电子与价带量子阱中基态重空穴复合形成的。
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关 键 词: | MOCVD 多量子阱 光致发光 砷化镓 AlGaAs |
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