| Ln0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜的显微结构及其电学性能研究 |
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| 引用本文： | 张利文,丁铁柱,王强,姜涛.Ln0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜的显微结构及其电学性能研究[J].内蒙古大学学报(自然科学版),2007,38(4):373-377. |
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| 作者姓名： | 张利文 丁铁柱 王强 姜涛 |
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| 作者单位： | 内蒙古大学理工学院物理系,呼和浩特,010021 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金
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内蒙古大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 采用离子束溅射法在氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)衬底上溅射Ln0.5Sr0.5CoO3-δ(Ln=La,Pr,Nd)薄膜,测试了不同工艺制备的Ln0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜样品的XRD谱和电导率.分析了薄膜显微结构以及电输运机理.结果表明:在YSZ衬底上生长的Ln0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜经过750 ℃热处理后,主要沿《110》方向生长;Ln0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜直流电导率的Arrhenius曲线近似直线,表明材料的导电行为符合小极化子导电机制.在所研究的样品中Nd0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜的电导率最高.
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| 关 键 词： | Ln0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜 XRD 电导率 薄膜显微结构 电学性能 研究 Electrical Properties Microstructures Study Films 薄膜样品 小极化子导电机制 导电行为 材料 近似直线 曲线 Arrhenius 直流电导率 方向 热处理 生长 结果 输运机理 |
| 文章编号： | 1000-1638（2007）04-0373-05 |
| 修稿时间： | 2006-11-282007-05-23 |
Study on the Microstructures and Electrical Properties of Ln0.5Sr0.5CoO3-δ Thin Films |
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| ZHANG Li-wen,DING Tie-zhu,WANG Qiang,JIANG Tao.Study on the Microstructures and Electrical Properties of Ln0.5Sr0.5CoO3-δ Thin Films[J].Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Neimongol,2007,38(4):373-377. |
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| Authors: | ZHANG Li-wen DING Tie-zhu WANG Qiang JIANG Tao |
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| Institution: | Department of Physics, College of Sciences and Technology, Inner Mongolia University, Hohhot 010021, China |
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| Abstract: | |
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