Aspergillus ficuum菊粉酶的化学修饰和荧光光谱

选用N-溴代琥珀酰亚胺(NBS)、焦碳酸二乙酯(DEPC)、丁二酮(DIC)、氯氨-T(Ch-T)、碳二亚胺(EDC)、苯甲基磺酰氟(PMSF)和二硫苏糖醇(DTT)等化学修饰剂,通过对Aspergillus ficuum内切和外切菊粉酶进行修饰,以研究菊粉酶分子中氨基酸侧链基团对酶活性的影响.研究结果表明:内切菊粉酶和外切菊粉酶活性中心的必需氨基酸残基均含有色氨酸和羧基氨基酸,且内切和外切菊粉酶活性中心的色氨酸残基数目分别为1和2;组氨酸可能是酶活性中心的组成基团.荧光光谱法研究表明:内切菊粉酶的色氨酸残基比外切菊粉酶的色氨酸残基所处环境的极性大,对环境的变化更敏感,并且更加暴露,表明这两种酶具有不同的构象,这种构象上的差别可能是导致二者对底物菊粉作用机理不同的原因.