在制作集成电路时用冠醚清除二氧化硅中的碱金属杂质

在制作集成电路时,为了增大P—N结的反向击穿电压和减小晶体管的交叉漏电流,我们利用冠醚清除二氧化硅中的碱金属杂质。一些试验结果对于生产者是有用的。