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用180~380keV质子注入LiNbO3造成折射率减小的埋层,以形成近表面处的平面波导;用350keV高注量Ti离子注入增加折射率,在注入区形成平面波导;用不同能量质子叠加注入,退掉由Ti内扩散制成的波导层。离子注入能在纵向与横向上改变LiNbO3的折射率剖面分布,可用于制作集成光学器件。 相似文献
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