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采用金属有机化学气相沉积 (MOCVD)法制备了TiO2 薄膜 ,测定了TiO2 薄膜的晶体结构 ,以 p -Si为基底电极 ,研究了TiO2 薄膜的光电化学性质 .经TiO2 修饰的p-Si电极 ,开路光电位增加近 2 0倍 ,并表现出很强的稳定性 ,是较理想的光电极材料及光电极修饰材料 . 相似文献
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电镀含铬废水处理技术初探 总被引:1,自引:0,他引:1
对电镀含铬度水处理的不同方法进行归纳研究,为不同的铬盐生卢和电镀提供佳处理方法。 相似文献
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MOCVD法制备TiO2薄膜的光电化学性质研究 总被引:3,自引:0,他引:3
采用金属有机化学气相沉积法制备了TiO2薄膜,测定了TiO2薄膜的晶体结构,以p-Si为基底电极,研究了TiO2薄膜的光电化学性质。经TiO2修饰的p-Si电极,开路光电位增加近20倍,并表现出很强的稳定性,是较理想的光电极材料及光电极修饰材料。 相似文献
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