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1.
微电子技术研究进展   总被引:1,自引:0,他引:1  
  相似文献   
2.
半导体技术发展限制及其逻辑发展趋势   总被引:4,自引:0,他引:4  
本文从半导体微电子技术的发展轨迹与限制讨论中,分析了微电子技术生命周期,并沿着上述脉路,指出了半导体技术将在尽力逼近其限中,不断增长高密度嵌入设计水平,不断扩展跨学科横向应用,并最终进入技术平台期,等待新的突破。  相似文献   
3.
分析了Dickson电压倍增器模型的局限性,提出了适用于N阱硅栅CMOS工艺的电压2部增器模型。用该模型研究了升压值与坟级数,升压时钟,长夺管尺寸等的关系。  相似文献   
4.
复合功能电子学   总被引:1,自引:0,他引:1  
许居衍  郑茳 《科学》1995,47(4):16-18
  相似文献   
5.
国际半导体工业发展态势分析   总被引:1,自引:1,他引:0  
国际半导体工业发展态势分析DevelopmentalTendencyoftheWorld’sSemiconductorIndustry¥许居衍(中国华晶电子集团公司,中国工程院院士无锡214061)郑茳(东吴大学──华晶无锡微电子应用研究所,教授无锡...  相似文献   
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7.
微电子学的发展前景ProspectsfortheDevelopmentofMicroelectronics¥//许居衍(中国华晶电子集团公司,教授无锡214061)郑茳(东南大学无锡分校,教授无锡214061)一、硅技术发展逻辑一切技术的发展,都要受...  相似文献   
8.
通过分析SiGeHBT超薄基区中非平衡效应对载流子温度,扩散系数等参量的影响,建立了超薄SiGeHBT基区渡越时间模型。  相似文献   
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