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1.
叙述了软X射线波段多层膜透射式起偏器和检偏器的设计原理,提出了设计准则,通过该准则设计的多层膜偏振元件能够同时满足具有较大的光通量和偏振度要求.同时还优化了不同膜厚比情况下软X射线多层膜偏振元件的性能,讨论了在多层膜制作过程中,由于表界面粗糙度和扩散的不同对元件性能的影响,这些工作为制作软X射线多层膜透射式起偏器和检偏器提供了设计基础。  相似文献   
2.
针对一类多时变时滞细胞神经网络,利用Young不等式和Halanay不等式技术,给出了保证平衡点惟一性和全局指数稳定性的几个充分判据.所得到的全局指数稳定判据完全独立于时滞,不要求时变时滞的可微性和神经元激励函数的严格单调性,且通过几个注释说明本文的结果改进和扩展了现有一些文献中的结果.仿真例子证明了本文结果的有效性.  相似文献   
3.
应用驱动—响应同步方法,研究了一类时滞混沌神经网络的全局渐近同步问题.基于分散控制策略,通过构造适当的Lyapunov-Krasovskii泛函,给出了保证两个具有相同结构但初始条件不相同的时滞混沌神经网络全局渐近同步的控制律设计方法.所得到的控制律不仅易于实现,而且具有高可靠性等特点,克服了传统的集中控制的不足.仿真示例验证了该方法的有效性.  相似文献   
4.
研究了Lipschitz常数与干扰抑制度之间的关系·通过对Lipschitz非线性系统设计具有干扰抑制的状态观测器,给出了该观测器渐近稳定的充分条件·在此基础上,针对外界干扰为能量有界的情况,得到了Lipschitz常数与给定的H∞干扰抑制指标之间定量的显示表达关系,并将其转化为对Riccati不等式的分析·结果表明,较大的Lipschitz常数一般对应较大的干扰抑制度,从而对Lipschitz非线性系统干扰抑制能力有了定量认识·  相似文献   
5.
在Cohen-Grossberg神经网络设计及实现过程中,非负放大函数条件是很实用的.在网络参数存在摄动的情况下,研究了具有非负放大函数的一类多延时Cohen-Grossberg神经网络的鲁棒渐近稳定性问题.首先通过证明一个有用的引理,建立了渐近稳定性和鲁棒稳定性之间的关系.其次,在不要求激励函数满足严格单调增加和有界性的情况下,通过构造适当的Lyapunov泛函,针对所研究的神经网络模型,基于线性矩阵不等式技术建立了平衡点鲁棒稳定的一个充分判据.仿真结果进一步证明了所得结论的有效性.  相似文献   
6.
基于线性矩阵不等式方法建立了时变时滞静态神经网络的指数稳定判据.考虑到时滞变化率对稳定性能的影响,分别建立了仅依赖时滞上界的稳定判据和完全依赖时滞信息的稳定判据.所得到的稳定判据能够适应慢变时滞和快变时滞两种情况,具有适用范围宽、保守性小和易于验证等特点,并通过几个注释说明与现有的文献结果进行了比较.仿真示例验证了所得结果的有效性.  相似文献   
7.
软X射线宽带多层膜设计与实验   总被引:1,自引:0,他引:1  
以周期膜理论为基础,改进了已有的设计方法,采用随机数的方法在18 ̄20nm波段设计了积分反射率最大的宽带多层膜,理论上得到了高于周期膜系8%的积发反射率。同时给出了整体的设计步骤,并用磁控溅方法对其进行了制备。  相似文献   
8.
探讨了 X 射线波段超反射镜的设计, 采用了周期膜堆作初始条件加单纯形局域优化和模拟退火全局优化方法, 设计了工作能量为Cu的Kα(8.0 keV)线的不同掠入射角和不同角度带宽的宽角度X射线超反射镜和8~25 keV范围内不同掠入射角和不同能量带宽的宽带X射线超反射镜. 同时, 还系统研究了非周期多层膜超反射镜的制备工艺, 解决了多层膜制备过程中遇到的一些工艺性问题和精确定标的问题, 进行了不同膜层材料对组合的超反射镜制备实验, 成功制备了相应的多层膜样品. 利用高分辨率X射线衍射仪测量了样品的反射率, 所得结果与设计值基本相符.  相似文献   
9.
利用无序获得更低折射率比范围内的全向反射   总被引:1,自引:0,他引:1  
讨论了如何获得较低折射率比 (nH/nL)下的全向反射 .在 1/4波长膜系基础上 ,采用非周期结构 ,设计了在高低折射率分别为 2 .16和 1.4 4下的可见光波段范围内的全向高反膜 ,并对非周期膜系和 1/4波长膜系进行了比较 ,最后实验制备了 5 95~ 6 10nm波段的全向高反膜 .  相似文献   
10.
极紫外投影光刻技术   总被引:2,自引:0,他引:2  
极紫外光刻最有可能成为下世纪初批量生产线工小于0.1μm集成电路的技术,倍受世界各国,尤其是美国和日本两个集成电路生产大国的密切关注,近年来得到了飞速发展。先后在极紫外光刻用无污染“碎片”激光等离子体光源,高反射率极紫外层膜制备技术,面形精度达亚纳米表面粗糙度均根值小于0.3nm的非球面超光滑表面加工与检测技术,无应力光学装校与调整,缺陷密度极小的反射式掩模,适于极紫外光曝光的表面成象光刻胶技术和  相似文献   
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