离子束溅射沉积角对Ni／Si膜界面特性影响的研究

用Ａｒ~＋离子束溅射高纯多晶Ｎｉ靶，在Ｓｉ（１００）基面上沉积１５０ｎｍ的Ｎｉ膜。经４００℃的真空退火１小时后，分别用ＸＲＤ和ＸＰＳ检验了两种大小不同角度上沉积试样的生成相及界面态。当沉积角≥６６°时，试样退火后仅出现Ｎｉ膜择优取向晶化，无硅化物生成。而在接近０°的小角度处沉积的试样，在相同条件退火后则出现以ＮｉＳｉ为主的三种硅化物混合相。     

离子束处理微型滚珠的表面和界面分析

用ＥＤＡＸ和ＡＥＳ分析了离子束动态混合处理的Φ１．５７－１．６０ｍｍ微型滚珠表面的均匀性和界面混合情况，在１００ｋｅＶ的Ｎ离限束动态混全条件下，界面混合区达１４０ｎｍ以上；同一球面不均匀度小于１％，球间不均匀度小于１５％。结果表明，为提高这类轴承的使用寿命，在适当工艺条件下采用离子束表面强化处理，完全可以达到实际应用的要求。     

不同衬底上离子束辅助沉积MoSx膜的研究

利用离子束辅助技术在黄铜与２０＾＃钢衬底上进行了沉积ＭｏＳｘ膜的研究。对该膜在常温大气环境中的摩擦损特性用针－盘磨损试验进行了评价；用ＸＲＤ和ＸＰＳ检查了磨损前后膜的生成相，组分及Ｍｏ元素价态的变化，发现不同度衬底上的ＭｏＳｘ膜在磨损中出现显著不同的结晶学变化，并对这一现角作了讨论。