首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   17篇
  免费   0篇
综合类   17篇
  2016年   1篇
  2014年   1篇
  2013年   1篇
  2011年   1篇
  2010年   1篇
  2009年   3篇
  2008年   1篇
  2007年   2篇
  2006年   3篇
  2005年   2篇
  2004年   1篇
排序方式: 共有17条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
利用自行研制的直流脉冲离子渗氮设备对高碳低合金钢GCr15在温度为460~550℃进行了真空离子渗氮处理1~5h,采用显微硬度计、XRD、SEM、耐腐蚀性检测仪等表征手段研究了离子渗氮对其性能的影响.实验结果表明:通过离子渗氮处理得到的表面硬度均在700HV0.3以上;渗氮层主要形成γ-Fe4N相及少量的ε-Fe2N/Fe3N相氮化物,氮化物的含量随渗氮温度的升高、渗氮时间的增加而增大;经真空离子渗氮处理其耐腐蚀性得到大大提高.  相似文献   
2.
衬底温度对射频溅射沉积ZAO透明导电薄膜性能的影响   总被引:2,自引:0,他引:2  
利用射频磁控溅射法制备了ZAO透明导电薄膜,通过XRD、SEM等手段对薄膜特性进行测试分析,研究了衬底温度对薄膜结构、表面形貌及其光电性能的影响.结果表明:衬底温度从300 ℃增加到400 ℃时,薄膜晶粒增大,晶粒结构分布规则,电阻率快速下降,可见光平均透过率明显提高.当衬底温度为400 ℃时ZAO薄膜的电阻率为2×10-3 Ω*cm、透过率为84 %,但是当衬底温度进一步升高时,薄膜性质将呈现下降趋势.  相似文献   
3.
采用射频磁控溅射方法,用Ga2O3含量为1%的ZnO做靶材,在不同基体温度和不同溅射压强的条件下制备了高质量的GZO透明导电薄膜.结果表明:基体温度和氩气压强对GZO薄膜的晶体结构、光电性能有较大影响.当温度为500℃,溅射气压为0.2Pa时制备的GZO薄膜光电性能较优,方块电阻为7.8Ω/□,电阻率为8.58×10-4Ω.cm,可见光的平均透过率为89.1%.  相似文献   
4.
根据等离子体美容仪负载的特殊性要求,设计了大气压交流放电状态自动频率跟踪电路,以达到仪器的稳定输出.详细讨论了频率自动跟踪电路的设计思想和实现方案.利用窗口比较器来检测输出状态改变,并转换为V/f变换的控制信号,通过压控振荡使得功率变换器的振荡频率跟踪系统本征频率的变化,以保持谐振状态,得到稳定输出.对所研制的电路进行了具体测试,结果表明:频率跟踪效果好,仪器输出稳定,使用效果佳.  相似文献   
5.
研制了150kHz中频交流脉冲电源,给出了中频交流脉冲电源的设计思路和实现方案.该电源采用全桥逆变拓朴电路、PWM控制方式、输出功率叠加的方案,具有输出变压器原边平均电流和副边峰值电流的过流保护功能.其输出峰值电压0~1200V连续可调,频率1~150kH z可调,脉宽占空比10%~40%可调,输出平均电流0~5A,最大输出功率5kW.利用该电源进行了等离子体化学气相沉积和反应溅射实验,证明该电源各项指标运行正常,工作稳定,具有良好的应用价值.  相似文献   
6.
双辉离子渗金属(DGPSA)技术,在硬质合金基体表面上沉积氮化钛(TiN)涂层,通过x射线衍射(XRD)表征和显微硬度计测试,研究了基体温度对TiN涂层微观结构及其性能的影响.实验结果表明:所制备的TiN涂层均为面心立方结构,并且基体温度明显影响TiN涂层的织构系数、晶粒尺寸、晶格常数、残余应力、微观硬度和耐磨性能.当基体温度为650~780℃时,所沉积TiN涂层具有最小的晶粒尺寸、最高的显微硬度、最大的品格 常数和最好的耐磨性能.  相似文献   
7.
地理信息系统在环境领域的应用   总被引:3,自引:0,他引:3  
介绍了地理信息系统(GIS)及其特点。从环境科学的角度出发,介绍了GIS在环境信息、环境质量管理、环境规划和环境影响评价等方面的开发应用前景。并结合实例,探讨了地理信息系统在大气环境影响评价中的具体应用过程。  相似文献   
8.
交流脉冲制备TiO2薄膜的性能研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用150kHz交流脉冲放电进行等离子体化学气相沉积(PCVD),使用Ti(OC3H7)4为源物质,在普通钠钙载玻片上制备了TiO2膜.主要考查了交流脉冲电压、反应室工作气压、气体流量、薄膜沉积温度等工艺参数对薄膜光学特性的影响,通过薄膜透过率和吸光度分析,探讨了各工艺参数对成膜品质的影响.结果表明:在载玻片上.根据不同沉积条件可制成性能不同的TiO2薄膜,均有光催化特性且附着力好.  相似文献   
9.
等离子体微弧氧化双向脉冲电源稳流稳压控制   总被引:4,自引:0,他引:4  
分析了在等离子体微弧氧化工艺中稳流、稳压的重要性,提出了微弧氧化双向脉冲电源的稳流稳压控制方案,给出了具体实现方法和实验结果.对比该稳流稳压控制方案和传统控制方案的差异,显示了此控制方案在成膜速度、成膜厚度以及成膜质量上的优越性.  相似文献   
10.
微弧氧化制备TiO2光催化剂降解甲基橙实验研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
用微弧氧化法在纯钛材料表面负载TiO2陶瓷膜,以此作为光催化剂,用紫外光为光源,降解甲基橙溶液.选用硅酸钠、磷酸钠、铝酸钠电解液体系,比较了所制备的不同TiO2光催化剂对降解甲基橙的影响.实验结果表明:不同溶液体系制成的TiO2膜对甲基橙均有脱色效果,但光催化降解甲基橙速率不同,在对比的溶液体系中,磷酸钠的效果最好.硅酸钠电解液中加入添加剂也改善了负载光催化剂的质量.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号