射频等离子体功率参数对硅基发光薄膜生长与结构的影响

采用射频等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以SiH4和Ar的混合气体为源气体,在石英玻璃衬底上制备了硅基发光薄膜.利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和傅里叶红外光谱(FTIR)对薄膜的形貌、结构和性能进行了表征,并利用发射光谱(OES)对薄膜等离子体生长过程进行了分析.研究结果表明,随着射频功率的增加,等离子体发射光谱中Hβ谱线强度激增,薄膜的红外光谱中Si—O键在1095cm-1处振动吸收峰强度减小,Si—Si键在613cm-1处特征吸收峰强度增加,说明射频功率增加加剧了硅烷的裂解与氧化硅的还原,提高了薄膜结晶度和纳米晶粒的融合度,并降低了沉积薄膜的表面粗糙度.     

介质阻挡放电及其在聚合物表面刻蚀中的应用

介质阻挡放电(DBD)是在大气压条件下产生非平衡等离子体的一种常规技术,在许多方面有着广泛的应用.介绍了笔者自行研制的DBD装置,讨论了使用该装置所产生的常压低温等离子体对聚合物材料表面刻蚀处理后,材料上染率、粗糙化、润湿性、生物相容性和表面形貌等方面的变化.探讨了DBD在这些方面的应用前景.     

等离子体对壳聚糖整理棉织物效果的影响

研究等离子体预处理技术对棉织物壳聚糖功能整理效果的影响.比较3种不同的整理方法.第1种是用柠檬酸及壳聚糖的混合溶液进行一浴整理;第2种是先用柠檬酸溶液再用壳聚糖溶液进行两浴处理;第3种是使用等离子体预处理织物后再经两浴法整理.使用酸性橙Ⅱ对整理后织物染色并测试K/S值.通过测试织物大肠杆菌和金黄色葡萄球菌的抗菌率考察其抗菌性.结果表明,经等离子体预处理后再经两浴法整理的织物的K/S值以及抗菌率较一浴法或两浴法都有所提高,对大肠杆菌和金黄色葡萄球菌的抗菌率高达100%.     

纳米多孔硅基薄膜的常压等离子体化学气相沉积过程研究

采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)的方法制备了带有新颖结构和特殊蓝紫光(400 nm左右)发光特性的硅基薄膜.通过在自行研制的等离子体反应装置中通入按100:1:1的体积比进行配比的SiH<,4>:H<,2>: Ar混合气体进行APECVD,在加负偏压条件下获得了由Si基组成的絮状多孔纳米结构薄膜.通过等离子体发射光谱测定了沉积过程中的电子温度在2.2eV左右,扫描电子显微镜(SEM)观测薄膜表面形貌后肯定了偏压对薄膜纳米结构的形成起着重要的作用.     

微波共振探针优化

为提高微波共振探针测量气体放电等离子体参数的灵敏度,采用COMSOL软件仿真并比较近场场强与辐射的方法,优化了共振探针的几何结构以及探针与耦合线圈的最佳耦合位置。通过仿真模拟可知:具有臂长长和臂间距小的探针的品质因子相对较大;当耦合线圈与探针的摆放位置越近时,耦合效率高,但耦合线圈和探针的辐射也随之增强。提出屏蔽耦合线圈辐射的方法来获得更大的品质因子,仿真模拟和试验测量均表明上述方法具有可行性。     

常压等离子体增强化学气相沉积纳米晶TiO2多孔薄膜的研究

采用等离子体增强化学气相沉积(PE-cvD)的方法及TICl4/O2混合气体在常温常压下可制备纳米晶TIO2多孔薄膜.利用偏光显微镜分析(PM)、扫描电子显微镜分析(SEM)、高分辩透射电镜分析(HRTEM)、X光衍射分析(XRD)等检测手段.系统地对纳米晶TIO2多孔膜表面形貌以及成分进行表征.研究结果表明:使用等离子体化学气相沉积方法,可以在常温常压下快速沉积纳米晶TiO2多孔薄膜,并且PE-CvD与传统的化学方法相比具有低能耗、低污染、方法简便、成本低等优点,是具有良好发展前景的纳米晶多孔薄膜制备新方法.