复合层状薄膜结构静磁正向体波延迟线的色散特性研究

本文从理论上对复合层状薄膜结构中传播的静磁正向体波(MFVW)进行研究.通过计算机计算,分析了不同参数对色散特性的影响,讨论了这种结构的MFVW的频限.从实验上实现了复合层状薄膜结构的MFVW延迟线.实验结果和理论计算符合.     

MnZn功率铁氧体的损耗特性研究

研究了MnZn功率铁氧体在不同温度、频率和磁感应强度情况下的损耗特性，分析了磁滞损耗、涡流损耗和剩余损耗的机理，及这三种损耗与温度、频率和磁感应强度的关系．结果表明，频率不高于100kHz时，MnZn功率铁氧体的损耗是由磁滞损耗、涡流损耗组成，其中磁滞损耗在低温时占主要成分；随着频率的升高，即使在磁感应强度较低时，涡流损耗和剩余损耗的影响不容忽视，且两者都随温度的升高而升高．     

高磁损耗型纳米多层膜研究

研究一种能用于微波吸收的高磁损耗型纳米多层膜材料，该多层膜材料采用软磁合金层CoFeZrNd和绝缘介质层SiO2交替的周期结构，用磁控溅射工艺制备的这类薄膜在微波段可具有高磁导率和大磁损耗，2GHz时μ121，μ147．重点探讨了磁性合金层厚度、介质层厚度、周期数等对这类多层膜材料微波复磁导率的影响规律和机理．     

在线式磁光隔离器的设计与分析

提出了一种新的与偏振无关的在线式磁光隔离器结构，给出了设计思想和工作原理．利用矩阵光学理论对磁光隔离器的正向插入损耗和反向隔离进行了分析．实验和理论分析表明该器件的性能良好．     

旋转喷镀法制备GHz高磁导率NiZn铁氧体膜

用自研设备将加压的反应溶液Fe2 Cl2( Fe3 Cl3) NiCl2 ZnCl2和缓冲溶液CH3COONH4以一定流量同时喷镀在90℃转盘上的玻璃衬底上以单质氧为氧化剂生成了厚度1～2 μm的NiZn铁氧体薄膜.X射线衍射数据表明制备的NiZn铁氧体薄膜具有尖晶石结构.氧化液pH值等于8.8时制备的薄膜的组成是Ni0.25Zn0.09Fe2.66O4,有313 kA/m的大的饱和磁化强度和692.5 A/m的低的矫顽力.在0.1 GHz到3.5 GHz频率范围内用Agilent 8722ES矢量网络分析仪通过短路微带线微扰法测量了薄膜的复数磁导率.薄膜的复磁导率的实部μ'r在0.5 GHz为36.1,虚部μ"r在0.8 GHz达最大值55.5.磁导率虚部值在0.5～2 GHz频率范围大于20,制备的薄膜将可以应用于微波频段的电磁干扰抑制器.