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951.
为了提高涵闸底板的设计质量和设计水平,从实际涵闸工程设计入手,提出了变截面双悬臂闸底板的计算模型;同时采用满应力准则法设计了六种形式的双悬臂闸底板,结果表明,采用连续板式或分离式闸底板式设计可节省工程量20%以上。  相似文献   
952.
模糊优化在坝工结构设计中的应用   总被引:2,自引:2,他引:2  
采用模糊优化方法探讨坝工结构设计问题,以重力坝为例,研究了该坝型结构设计中的模糊性因素及其隶属函数,提出了模糊优化设计数学模型,以某重力坝断面的模糊优化计算,说明模糊优化正常规优化具有更高的经济效益。  相似文献   
953.
冲裁件排样的优化设计   总被引:4,自引:0,他引:4  
本文根据冲裁件在条料上排样各零件轴线平行的条件,导出以遍历网格法为基础的冲裁件排样优化模型.该模型将目标函数化为一组单值单变量函数,结合查表法,只需少量运算便可求出目标函数值.文中还给出了程序框图.  相似文献   
954.
本文通过试验对影响起挑水头、收缩段水面线、水舌外缘出射角的因素进行了分析,提出冲击波交汇点的计算式及水舌外缘最大挑距的计算式;讨论了各种参数对压力分布的影响。还提出了可供设计参考的体形参数选择范围。  相似文献   
955.
我们在此给出一个在意大利IDS—80图形计算机系统上实观的符号库。我们扼要地概述了该库的构造和使用方法。这个库是一个遵循机械设计统一标准UNI的标准符号库并且我们的方法(模型扩张)是新的和有价值的。  相似文献   
956.
本文提出了在微型计算机上进行服装设计的方法.本软件系统包括了编译器和服装设计系统,编译器将AUTOCAD 和GWBASIC 相连接,作为开发服装设计系统的工具.服装设计系统包括了菜单选择、衣片设计、自动排料、以及在绘图机上按比例输出衣片和排料图.本系统能完成服装设计的全过程,其中包括:选择服装式样,输入衣服尺寸,绘出衣片和排料图。本系统在微型计算机VICTOR/9000及绘图仪DXY-800A 上运行,经过测试,从用户输入衣服尺寸开始,到系统绘出衣片和排料图为止,只需4—7分钟的时间.  相似文献   
957.
本文对酒精精馏塔的设计,提出采用一元三次样条插值法计算其最小回流比和理论板数,并给出计算程序框图。为非理想溶液系统提供了设计和精馏模拟的依据。该方法对于有合理的汽液平衡数据的精馏,特别是高纯产品精馏和精密精馏的设计计算有参考价值。  相似文献   
958.
竹木复合层积材结构及其性能   总被引:11,自引:3,他引:8  
运用复合材料力学层合板理论对竹木复合层积材进行结构设计与试验。结果表明:以高密度竹帘胶合板为强化面层,马尾松板材为芯层,采用特殊的二次热压生产工艺,研制出的竹木复合层积材物理、力学性能良好,能够满足铁路平车地板对强度、耐候性、耐磨性、握钉力等性能的特殊要求。  相似文献   
959.
硅基半导体光电子材料的第一性原理设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
具有特定功能的半导体材料的计算设计,是计算材料科学的一个重要研究领域.由于半导体的诸多性质取决于价带顶和导带底的电子态及其中的载流子分布,因此带隙的大小和能带极值的对称性便成为半导体材料设计最受关注的问题.为了进一步解决硅基光电子集成(OEIC)技术发展的瓶颈.设计具有直接带隙特性的硅基新材料并使其成为有效的光发射体,是一项富有挑战性的工作.本文在分析大量半导体能带结构的基础上,给出类sp系列半导体由间接带隙过渡到直接带隙的主要物理机制,并以对称性概念、芯态效应和电负性差效应为基础,提出一种新的直接带隙半导体材料设计方案.根据这个方案所表达的设计思想,我们对当前十分受关注的硅基光发射材料进行了计算设计.结果发现,用VI族元素在硅生长时进行周期性插层的、具有正交和四角点群对称性的人工微结构材料VIA/Sim/VIB/Sim/VIA具有直接带隙特性.其中当m=5或奇数时,材料有四角结构对称性,而m=6或偶数时是正交结构对称性.VI“。。是在〈001〉生长方向生长的单层VI族元素.这类材料的优点在于可自然地与硅实现晶格匹配,与微电子技术相兼容,并可较容易的用现行的MBE、MOCVD或UHV-CVD生长方法实现.预期这类新材料及其相应器件的研制开发.将大大开拓全硅OEIC和硅光子集成(PIC)技术的进一步发展.  相似文献   
960.
叙述了官上1#M型曲墙式双连拱隧道在不同围岩类别的设计、施工方案、洞身开挖、钻爆设计、初期支护等方面的内容,旨在为同类型工程的设计和施工提供参考。  相似文献   
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