首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   187篇
  免费   3篇
  国内免费   2篇
系统科学   2篇
丛书文集   5篇
教育与普及   5篇
现状及发展   2篇
综合类   178篇
  2024年   5篇
  2023年   5篇
  2022年   3篇
  2021年   5篇
  2020年   7篇
  2019年   4篇
  2017年   4篇
  2016年   5篇
  2015年   11篇
  2014年   12篇
  2013年   9篇
  2012年   12篇
  2011年   6篇
  2010年   9篇
  2009年   13篇
  2008年   9篇
  2007年   11篇
  2006年   8篇
  2005年   6篇
  2004年   4篇
  2003年   6篇
  2002年   2篇
  2001年   4篇
  2000年   1篇
  1999年   7篇
  1998年   1篇
  1997年   3篇
  1996年   6篇
  1995年   4篇
  1994年   2篇
  1993年   1篇
  1992年   2篇
  1991年   1篇
  1990年   3篇
  1988年   1篇
排序方式: 共有192条查询结果,搜索用时 218 毫秒
51.
对1Cr18Ni9Ti进行了电解抛光和不织布复合加工实验,并利用正交设计方法中的极差分析法,对实验数据进行了分析,获得了最佳工艺参数,实验表明,这种加工方法可使不锈钢加工表面达到理想的粗糙度或镜面。  相似文献   
52.
提出了面向激光雕刻管状冠状动脉支架的通用化制作工艺流程,包括支架的结构设计、材料选择、切割、真空退火和电化学抛光等关键工序.研究了金属覆盖率、网孔、轴向短缩率和支撑效率等的相互影响,以选择合理的支撑环和连杆形式;确定了激光切割加工中最优化切割路径和机器参数;阐述了抛光前处理时酸洗液的选择、酸洗温度和时间的控制,以及真空退火时升温速度、冷却速度和保温时间的控制;分析了抛光液的选择和电极设计,以及抛光温度、电压和时间对电化学抛光效果的影响;并设计制作出了符合体外测试要求的支架样件.  相似文献   
53.
聚氨酯微孔抛光衬垫   总被引:1,自引:0,他引:1  
研制的抛光衬垫,是一种微孔弹—塑性聚氨酯泡沫制品,在其结构中含有固体的磨料或抛光剂,用快速三步法制备,在机床加工成为图片。 这类抛光村片,成功地用于精密光学镜片和眼镜片的抛光,亦用于合金和其它材料的抛光和精加工。 聚氨酯基体材料和其它聚合物互穿网络,能提高衬片的承载性能。  相似文献   
54.
中等粒度纳米金刚石用于磁头抛光的工艺   总被引:7,自引:0,他引:7  
采用浮动块研磨抛光机,研究中等粒度纳米金刚石抛光液用于硬盘磁头抛光时其颗粒大小及其悬浮液的分散稳定性与磁头表面质量的关系,以及抛光各工序、运行参数与表面质量的关系.磁头表面质量采用原子力显微镜观测分析.通过对抛光过程运行参数的正交实验,对中等粒度纳米金刚石用于磁头抛光的工艺过程进行优化.实验结果表明:磁头表面粗糙度随着金刚石粒径的减小而减小,但二者并不呈线性关系;抛光液的分散稳定性比抛光液颗粒粒径更能影响表面划痕的深度;精研磨能有效去除表面划痕;而抛光能有效降低表面粗糙度,但其对划痕的消除不如精磨有效;各参数对表面粗糙度和划痕的影响程度不同,但是优化后参数取值相同.  相似文献   
55.
浮动块研磨抛光机研磨磁头的表面去除分析   总被引:3,自引:0,他引:3  
对浮动块研磨抛光机的运动学方程进行研究结果表明: 研磨时, 任意磁头上任意一点的运动轨迹是周期性的, 这种运动周期的重复性与工作圆环的角速度ω2和研磨盘的角速度ω1之比有关;当浮动块研磨抛光机在理想状态工作下时, ω1=ω2, 此时, 任意磁头上任意一点移动的路程相等, 表明磁头表面去除率相同, 但其轨迹的重复性太强. 在实际工作中, 磁头表面能取得均化的研磨条纹, 而整个研磨平面的平整精度却不一定很高;任意一点在每周期移动的路程长度与角速度ω和偏心距e有关, ω和e越大, 周期路程越长. 而周期路程较短, 表明轨迹的方向改变愈频繁, 有利于获得愈好的表面质量, 只是去除率降低. 因此, 粗研磨时, 宜取较高的转速以提高效率;而精研磨时, 宜取较低的转速以提高表面质量.  相似文献   
56.
Modeling Chemical Mechanical Polishing with Couple Stress Fluids   总被引:9,自引:0,他引:9  
Chemical mechanical polishing (CMP) is a manufacturing process used to achieve high levels of global and local planarity. Currently, the slurries used in CMP usually contain nanoscale particles to accelerate the removal ratio and to optimize the planarity, whose rheological properties can no longer be accurately modeled with Newtonian fluids. The Reynolds equation, including the couple stress effects, was derived in this paper. The equation describes the mechanism to solve the CMP lubrication equation with the couple stress effects. The effects on load and moments resulting from the various parameters, such as pivot height, roll angle, and pitch angle, were subsequently simulated. The results show that the couple stress can provide higher load and angular moments. This study sheds some lights into the mechanism of the CMP process.  相似文献   
57.
高度有序多孔氧化铝膜的制备和研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
分别用一步和二步阳极氧化法制备了多孔氧化铝膜,制备出了高度有序、六方柱形结构的多孔氧化铝膜。用原子力显微镜观察了不同电化学抛光条件下抛光铝样品表面的微观结构,探索出了电化学抛光预处理的最佳工艺条件:在温度为10℃、乙醇和高氯酸体积比为4:1的混合液中,于恒电压55V的条件下,对铝片进行电化学抛光30s.为进一步组装各种纳米结构材料打下了基础.  相似文献   
58.
超光滑表面抛光技术   总被引:23,自引:0,他引:23  
超光滑表面抛光技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,超光滑表面在国防和民用等领域都有着广泛的应用.文中介绍了超光滑表面的物理特征和应用,并根据抛光过程中工件与抛光盘之间的接触状态,将各种抛光方法分为直接接触、准接触和非接触3类,对每一种抛光方法作了总体的描述,详细地介绍了近年来发展的激光抛光技术和化学机械抛光技术及其超光滑表面抛光的加工机理,介绍了超光滑表面的测量和评价方法.  相似文献   
59.
机械零件的表面质量直接影响其使用寿命.采用电化学机械复合抛光,可以大大提高机械零件的抛光效率,但对于深小孔等抛光工具(磨头)很难深入的小结构,采用此方法工艺上很难实现.脉冲电流电化学抛光可以经济有效地对复杂形状的零件型腔进行抛光.对镍铬合金材料试件进行了脉冲电流电化学抛光的工艺试验,讨论并分析了实验结果,得出了加工参数对表面粗糙度的影响规律,以及各加工参数影响表面粗糙度的经验公式.  相似文献   
60.
加工工艺对医用心血管支架生物相容性的影响   总被引:6,自引:0,他引:6  
设计了一种新结构的316L不锈钢心血管支架,采用激光切割和电化学抛光去除尖角的加工方法,通过3D细胞和小鼠骨髓基质细胞培养以及人体外周血的溶血实验,研究了加工工艺对该心血管支架生物相容性的影响.采用激光切割和电化学抛光工艺,获得了设计的支架形状并消除了支架边缘的尖角;实验组和对照组对比表明,细胞的形状、数量相同,其活性和生长未受支架影响,支架没有引起溶血反应,加工工艺是合理的,没有产生细胞毒性。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号