光瞳环带相位调制法提高数字光存储密度的研究

对高密度光存储技术中光瞳环带相位调制方法进行了分析，并将其与光学切趾术进行了比较．研究发现，这种减小像面上光斑大小的方法是以大幅度增加旁瓣与主瓣的相对大小为代价的，它提高光存储密度的效果基本与光学切趾术相当．但是，对于高阈值的光探测器．光瞳相位调制方法要优于光学切趾术．     

用手性醇改性的铝锂试剂对芳酮的不对称还原

为开发新型手性铝锂试剂，探讨双不对称诱导效应，选用含杂原子的光学活性氨基酸为辅助配体，与1，2，5，6—二丙酮甘露醇共同修饰LiAIH4，对潜手性芳酮进行不对称还原，得到光学活性醇；通过与α—D-乙酰氧基—L-丙酰氯生成非对映异构体酯，经气相色谱分析，对映体过量在43．6％。N．7％之间。结果表明辅助配体的绝对构型、空间位阻、β位杂原子对光学产率均有影响。     

椭圆偏振谱学法研究Ni(OH)2/NiOOH电极的性质

应用现场椭圆偏振光谱技术并结合循环伏安法。研究了镍电极表面Ni(OH)2与NiOOH的相互转化，以均匀膜模型拟合实验数据获得表面膜厚度的变化规律，采用以光学参量变化速率(Vop)为参数的椭圆偏振光谱方法能直接反映出体系的特征．Vop参量与表面膜厚度的变化率间存在密切关系,Vop反映了电极表面表面膜厚度的变化率．     

过采样方法在系统辨识中的应用

为了对带噪输出的控制系统进行盲辨识，提出了一种利用过采样法辨识控制系统函数的方法，通过过采样控制系统的输出信号，将原单输入单输出系统转换成为一个新的与原系统具有相同输出极点的单输入多输出系统，再估计出这个新的单输入多输出系统的传递函数，最后得到原单输入单输出系统的模型参数，仿真结果表明，与常用的高阶矩法相比，该方法具有不受系统结构影响，不需要计算样本数据的高阶统计矩，使用的样本数据量少，便于计算机实现的优点。     

嘧啶环二炔氮桥C60衍生物的合成及非线性光学性质

合成了嘧啶环二炔氮桥C₆₀衍生物C₆₀NPD ,研究了在532nm、脉宽 8ns条件下的非线性光学特性。通过Z-扫描实验发现C₆₀NPD有很强的非线性吸收和非线性折射,并获得了三阶非线性光学系数χ⁽³⁾ 。同时也研究了光限幅特性，实验结果表明C₆₀NPD有较低的光限幅箝位值。     

基于色度学的人眼彩色探测特性分析

相对于黑白视觉的亮度对比度的探测特性，分析了人眼视觉对彩色条纹的探测特性．在分析前人研究和实验的基础上，根据色度学原理，研究了前人实验中所采用的红绿条纹和黄蓝条纹的亮度、主波长和色纯度变化．提出了用亮度对比度、主波长对比度和色纯度对比度描述人眼彩色对比度探测特性的概念，可初步定性解释部分前人的彩色视觉实验结果．为进一步评价彩色图像质量提供了一种可能的技术途径．     

波动光学应用于成像光学系统装配公差的确定

给出一种利用波动光学原理计算成像光学系统，特别是非旋转对称系统的装配公差计算方法．采用光波波面描述物面上一个点发出的光在存在装配误差的系统中的传播过程．用菲涅耳衍射公式计算自由传播部分；用薄透镜的透射比计算通过透镜时的波面变化，由此得到射向像面的成像波面；通过对成像波面分布的分析推断成像情况；依据容许的成像质量确定装配误差．以一个含两个柱面透镜的成像系统为例，导出了确定这两个柱面透镜母线不正交性公差的公式．由此说明该方法可以解决不易用几何光学方法获得解析结果的问题．     

高功率激光二极管的可靠性研究

在使用综合参数测试仪测试半导体量子阱激光器的过程中，通过测试的功率曲线和伏安特性，断定激光器受到损伤，由扫描电镜(SEM：Scaning Electron Microscopy)观察到激光器的腔面出现了熔化，证实激光器性能的改变是由于产生了暗线缺陷(DLD：Dark Line Difect)和灾变性光损伤(COD：Catastrophic Optical Damage)，通过分析，了解到激光器的退化主要是由器件本身的材料、结构以及后期的工艺过程所决定的，在测试器件过程中电浪涌会加速或产生突然灾变性退化，最后给出了用隔离及无吸收窗口来减少损伤的方法．     

浅谈控制系统中数学模型建立的几种方法

主要阐述控制系统中数学模型的内涵，建立数学模型的几种方法，同时根据传递函数特点进行系统分析，为时域或频域分析打下基础。     

干涉法测量器件表面特征缺陷的计算机模拟

光学干涉方法测量器件表面微小缺陷是一种有效的实验方法．对于多样性结果的唯一性分析，借助于计算机模拟，得到特征缺陷的干涉图样的模拟结果．该结果适用于不同波长，缺陷尺度连续变化的微小情况．使用误差跟踪计算办法，可分辨的缺陷尺度变化从1／2波长的10＾－1量级倍数到10＾2量级倍数．