钛酸铅纳米线的XPS和Raman特性研究

采用水热法在200℃合成直径约为12 mm、长度达5μm、具有四方相钙钛矿结构的钛酸铅(PbTiO3)纳米线.X射线光子能谱(XPS)结果表明,PbTiO3纳米线的Ti 2p(3/2)结合能中心峰值大于PbTiO3陶瓷,导致Ti 2p自旋轨道分裂(Δ(2p(3/2)~2p(1/2)))增大.室温激光Raman光谱研究显示,PbTiO3纳米线的振动模具有红移和拉曼峰展宽现象,表明纳米线的声子寿命相对于块体材料有所减小.     

CH3CSNH2／NH4OH钝化GaAs（100）表面的XPS表征

一种新的含硫化合物ＣＨ３ＣＳＮＨ２／ＮＨ４ＯＨ溶液被用来钝化ＧａＡｓ（１００）表面．应用Ｘ射线光电子谱（ＸＰＳ）表征了该钝化液处理的ＧａＡｓ（１００）表面的成键特性和电子态．结果表明，经过处理的ＧａＡｓ（１００）表面，能有效地消除Ｇａ和Ａｓ的氧化物，并且Ｓ既与Ａｓ成键也与Ｇａ成键，形成了Ｓ与ＧａＡｓ的新界面，这标志着ＣＨ３ＣＳＮＨ２／ＮＨ４ＯＨ溶液对ＧａＡｓ（１００）表面具有明显的钝化作用．钝化表面退火处理后，Ａｓ的硫化物不稳定，进一步与ＧａＡｓ衬底反应，生成稳定的ＧａＳ钝化层，此种钝化液可直接应用于半导体器件钝化工艺对ＧａＡｓ表面处理     

镍镀层材料表面硬脂酸配合物膜的电化学和光电子能谱研究

通过加速化学和电化学腐蚀实验(LSV)比较了长链脂肪酸和杂环化合物等一系列有机缓蚀剂在镍镀层材料表面形成的配合物膜的耐蚀性,结果表明,硬脂酸在镍镀层材料表面形成的膜耐蚀效果最佳.用光电子能谱(XPS和AES)研究了配合物膜层的结构和性能,以及在金属表面的成键特征和波谱变化,探讨了配合物膜的组成、化学状态和缓蚀机理.硬脂酸分子中COO-中的氧原子与镍镀层表面发生界面反应形成硬脂酸配合物膜,膜由镍的氧化物和镍的硬脂酸配合物组成,其中Ni和O分别呈 2、 3和-2价,配合物膜的结构可表示为Ni-硬脂酸/NimOn/Ni,各元素的相对原子百分浓度(A.C.%)分别为Ni65.6%、C23.5%、O10.7%,该膜层厚度约为12.5nm.     

丙烯在镍离子高分散催化剂上反应过程的TPSR EPR XPS UV-DRS研究

用ＴＰＳＲ法对丙烯在硫酸镍高分散型催化剂上反应过程进行考察；用ＮＨ３－ＴＰＤ法对ＮＨ３吸附中心进行跟踪，发现除强弱两类酸中心外，确有第三类活性中心，此第三类活性中心可能就是配位催化活性中心。     

空气电晕放电处理涤纶织物表面结构性能表征

利用XPS、ATR-FTIR等手段来研究DMF预溶胀涤纶经电晕放电处理后的表面结构性能.结果表明:电晕处理后表面引入了氧元素;表面晶区下降,非晶区含量提高,经长时间处理后,各含量与原样接近.     

氧离子束辅助激光淀积生长ZnO/Si的XPS研究

利用X射线光电子能谱深度剖析方法对ZnO/Si异质结构进行了分析，用该法可生长出正化学比的ZnO，不过生长的ZnO薄膜存在孔隙，工艺还有待进一步改进。     

BPO—DMA引发氯丁橡胶接枝共聚的研究

研究了温度、时间、BPO-DMA用量配比对MMA接枝CR的影响,得出了能体现该氧化还原引发聚合特征的反应条件。当[BPO]=[DMA]=0.01 mol/1,40℃～55℃反应3 h接枝率可达一峰值(～14％)。XPS和SEM分析结果,证明产物为一接枝共聚物;且接枝率为10～14％时粘接强度迅速增加,接枝聚合的活性中心在CR 双键的α-H位置。     

液晶显示器的替代ODS清洗技术研究

液晶显示器行业目前一般采用ODS溶剂清洗．对一种新型水基替代ODS清洗技术进行了研究。利用X射线光电子谱的测试方法，比较用两种清洗技术清洗过的样品，结果表明，新型替代清洗技术优于传统ODS清洗技术．