光刻机镜头的结构设计与装配

介绍工作波长为193am的投影光刻物镜的研制，时结构型式的确定和材料的选择以及加工装配工艺进行充分考虑，提出投影光刻物镜结构设计和装配方法．本文研制的镜头在光刻机中获得了广泛应用．     

基于文献计量的全球光刻机领域发展态势研究

<正>光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是大规模半导体制造的核心设备,它的精度决定了芯片制程的精度,被誉为半导体工业皇冠上的明珠。全球高精度半导体用光刻机主要来自荷兰的ASML以及日本的Nikon和Canon这三家公司,而最顶级的EUV光刻机仅有ASML公司能够生产,最高能支持2nm芯片的制造,     

高精度平面光栅尺测量系统减振技术研究

高精度平面光栅尺测量系统的测量精度直接影响浸没光刻机硅片台的定位精度和稳定时间.考虑到安装在平面光栅尺载体上的平面光栅尺因其载体固有频率较低,易受到主基板残余振动和高速硅片台气压扰动而产生振动,因此研究平面光栅尺载体的减振技术意义重大.文中阐述了一种新型平面光栅尺载体减振方法,围绕热解耦技术和粘滞阻尼吸振技术,进行理论建模、仿真分析和测试评价.结果表明粘滞阻尼器和柔性结构并联系统可以显著改善平面光栅尺载体结构动态特性,提升平面光栅尺测量系统的测量精度及缩短硅片台的稳定时间.      

全自动光刻机自动对准与激光扫描光学系统

本文首先概述了全自动光刻机的对准光学系统,接着详细阐述了激光扫描实时检测对准误差的基本原理,分析了扫描对准光学系统的设计要求,讨论了设计时应该遵循的原则、设计方法、设计步骤和有关方案,并给出了部分测试结果.     

休斯光刻机汞灯电源的原理与维修技术

汞灯具有电弧密度大、亮度高、近紫外谱线集中等许多优点,在微电子光刻领域中有广泛应用。由于汞灯为高强度气体放电灯,发光受环境温度、电压强度等因素影响较大,为光刻设备中易出现故障的器件之一。在大连理工大学微系统实验室近9年的使用过程中,对德国休斯公司生产的MA6型光刻机的汞灯工作原理进行了充分的研究和分析。通过维修,解决了汞灯电源电流停机保护故障和温度停机保护故障两个问题,保障了设备的正常运行。同时,揭示了汞灯光源的功率电路、控制电路原理,介绍了恒功率输出、恒光强输出的电路工作原理。     

合肥谋建中国科技交易中心媲美“深圳高交会”

5月15日，省委常委、市委书记孙金龙来港参加2006中国国际徽商大会。一下飞机，他就直奔香港中环集团有限公司所在地，与中环公司高层展开座谈、参观考察了中环公司产品研发中心。市领导杜平太、市委秘书长林存安陪同。孙金龙对中环公司参与在肥投资高科技光刻机项目表示欢迎。     

浸没式光刻机内薄边界浸液流动的仿真分析

硅片扫描速度的不断提升是45nm以下浸没式光刻的发展趋势,由此带来的液体泄漏问题日益凸显. 降低液体边界厚度可有效提高抑制泄漏的表面张力,却改变了传统浸液流场的应力分布及流动规律. 基于计算流体动力学方法,建立浸液流场的三维数值模型,在液体下界面的硅片处于高速扫描状态下,研究薄边界浸液流动的压力特征及液体更新效率,相关结果与已有试验吻合性好. 研究结果显示,边界厚度取0.3~0.5mm时可取得最佳的抗泄漏效果,同时硅片沿压差流方向运动时边界压力最小且液体更新稳定,研究结果对增强光刻过程的可靠性和密封性提供了参考依据.     

大面积液晶显示面板光刻机新型工作台设计

论述曝光面积达３５６ｍｍ×３５６ｍｍ，套刻精度为±２μｍ，接近式（０～２５１μｍ）液晶显示面版光刻机的新型工作台设计。     

基于ZPET-FF和ESO的直线伺服鲁棒跟踪控制

提出一种将零相位误差跟踪和前馈(ZPET-FF)与扩张状态观测器(ESO)相结合的重复控制方法,以提高宏动台直线电机伺服系统的跟踪性能.以ZPET-FF作为前馈跟踪控制器,将信号估计器估计的跟踪误差和系统的实时误差作为其输入信号,将控制器对系统的跟踪误差进行实时补偿,以降低参数变化对系统的影响,有效提高系统的带宽和跟踪性能,减小系统的动态跟踪误差;采用ESO补偿系统中的各种扰动抑制噪声,以提高系统的抗干扰能力.实验结果表明,所提出的控制方法不仅提高了系统的动态跟踪性能,而且减小了系统的跟踪误差.