刮板机改造技术研究

<正>某煤矿洗煤厂是一座设计处理能力500万t/a的块煤洗煤厂。该厂自2000年矿井投产以来,经过多次挖潜改造,矿井生产能力逐渐提高,目前生产能力已近780万t/a,洗煤处理能力也随之有了很大提高,由160万t/a提升到了240万t/a。但是随着生产能力的提高,煤泥水系统面临巨大压力,由于系统处理能力低,煤泥水分偏高(30%左右),严重影响了煤炭产品质量。为此,2010年引进2台GPJ120型加压过滤机,对煤泥水系统进行了改造。改造工     

恩德煤气给后序生产带来问题的解决措施

<正>尿素装置的煤炭气化炉原设计以焦炭为原料,随着市场形势的变化,焦炭价格上涨,再以焦炭为原料生产尿素成本增高.于是新建2台恩德炉,用劣质煤代替原设计的焦炭造气,后序装置不变,恩德炉所产的煤气与原焦炭富氧气化所产的煤气组分有很大差别,并且煤气中夹带的粉尘又比较多,影响了系统生产稳定,针对出现的问题采取了相应的措施.     

选矿工艺改变与安全环保问题的应用实践

<正>一、金牛公司店房选厂概况店房选厂始建于1988年,1990年正式投产,生产规模为100t/d全泥氰化+锌粉置换工艺,后来经过改扩建,使生产规模达到330t/d,工艺流程为浮选+氰化+炭浆吸附工艺。迫于日益严峻的环保形势,2012年小双沟尾矿库隐患治理之后,临时将生产规模由330t/d浮选+氰化炭浆吸附工艺改为100t/d全泥氰化炭浆吸附工艺。二、存在问题1.环保压力。因受原工艺(330t/d浮选+中矿氰化炭浆吸附)条件限制,尾矿回水不能全部返回生产系统再利用,造成日益严峻的环保问题。2.企业严重亏损,无利润可言。迫于环保压力,2012年6月     

分段连续型随机微分方程的均方稳定性分析

考虑了自变量分段连续型随机微分方程(dX(t)=(a1X(t) a2X([t]))dt (61X(t) b2X([t]))dW(t)的解析解和数值解的均方稳定性.得到了解析解的表达形式,证明了当2a1 b2 b21 b222|a2 b1b2<0时,解析解是均方稳定的.在此条件下,讨论了由半隐式欧拉方法得到的数值解的稳定性,得到如下结论:当0≤θ相似文献   

The semi-discretization of a repairable system with some singleness components

为解决一类单部件可修系统模型的数值计算问题,首先用半离散化方法对该系统模型中的修复率μ(x)进行离散,得到离散后的偏微分方程;然后用算子半群的知识将偏微分方程转化成矩阵常微分方程,根据Trotter逼近定理证明离散后方程的解逼近原方程的解.结果表明,将半离散化方法应用到该系统模型中是可行的,从而为其进一步的数值计算提供了理论基础.     

社区生活垃圾分类回收系统交互设计研究

从交互设计理论出发,针对城市社区生活垃圾分类问题,以垃圾分类回收交互系统及其要素为研究对象,构建垃圾分类回收人机交互系统模型。理清垃圾分类系统中各要素对居民垃圾分类行为的影响路径,通过调研发现和剖析系统及各要素变量的关系与问题,据此提出相应设计策略：即系统终端人性化和标准化、系列化、差异化设计策略;信息即时反馈和多通道传达策略;环境匹配策略。     

FCM2000燃油流量计的安装与调试

<正>一、系统简介中电投宁夏临河发电厂锅炉采用东方锅炉股份有限公司生产的350MW超临界参数变压直流锅炉,锅炉最大连续蒸发量为1147t/h。炉前燃油系统进、回油管路上均设计有一质量流量计(系统示意流程见图1)。该流量计采用ABB公司生产的FCM2000质量流量计,可同时测量瞬时质量流量、累积质量流量、密度和温度。     

工业企业挥发性有机物(VOCs)全过程污染控制分析——以医药中间体4-AA生产为例

以医药中间体4-AA生产为例,对医药中间体行业生产过程中VOCs主要产排过程进行了分析。从企业层面提出了VOCs全过程污染控制思路:严格控制工艺废气VOCs排放、生产设备密封点泄漏、储罐和装卸过程挥发损失、废水废液废渣系统逸散等环节及非正常工况排污。通过采用先进的生产工艺、实施工艺改进,做好生产环节和废水废液废渣系统密闭处理,采用先进的罐型和装卸方式等措施,从源头减少VOCs的泄漏排放;对具有回收价值的工艺废气、储罐呼吸气和装卸废气进行回收利用;对难以回收利用的废气按照相关要求处理。     

蒽醌法过氧化氢生产中萃取塔液泛问题

<正>公司拥有一套年产17 000 t(浓度27.5%)的双氧水装置.正常生产情况下,系统流量为100～105 m3/h,日产双氧水50 t.但是在生产过程中会出现萃取塔液泛,系统流量被迫下降,最低时60 m3/h,严重影响双氧水产量和质量.     

无模型控制技术在酮苯装置回收系统中的应用

以大庆石化公司炼油厂酮苯装置回收系统的控制为例,讨论了无模型控制方法在应用过程中所解决的一些关键技术问题,其中包括:控制方案的制订、控制算法参数的整定等.实际的控制效果显示了无模型控制方法的优越性.同时简要介绍了无模型控制方法在石化工业中对复杂控制系统已经取得的一系列成功的应用.     

半化学法合成辅酶Q10

以3,4,5-三甲氧基甲苯(Ⅰ)为原料,经过Vilsmeier-Haack反应台成6-甲基-2,3,4-三甲氧基苯甲醛(Ⅱ)(收率94.1%).Ⅱ经过Dakin反应得到2,3,4-三甲氧基-6-甲基苯酚(Ⅲ)(收率96.2%).用溴化苄对(Ⅲ)进行酚羟基保护得到2,3,4-三甲氧基-6-甲基苯苄基醚(Ⅳ)(收率95.0%).Ⅳ与1-苯磺酰基-2-甲基-4-羟基-2-丁烯(Ⅴ)在Lewis酸溴化锌的催化作用下发生傅-克烷基化反应得到3-(4-苯磺酰基-3-甲基-2-丁烯)-基-4,5,6-三甲氧基-2-甲基苯苄基醚(Ⅵ)(收率68.9%).Ⅵ与茄呢基澳(Ⅶ)偶联得到接砜产物(Ⅷ )(收率51.0%).Ⅷ经乙醇钠脱砜、硝酸铈铵氧化得辅酶Q10(Ⅸ)(收率45%).产物经熔点测定、1H NMR和FTIR分析鉴定和确证结构.     

200吨/年多晶硅装置工程设计

山东鼎昌硅业科技有限公司根据市场需要新建一套200吨/年太阳能级多晶硅生产装置.该装置采用改良西门子工艺,主要包括三氯氧硅提纯部分、干法回收部分、多晶硅还原与后处理部分以及配套的纯水、氮气、导热油等辅助系统.装置于2009年12月建成,20lO年7月投产,产品一次分析合格,经考核,装置满足设计要求.     

一种新型双极化口径耦合微带天线阵

提出一种新型双极化口径耦合微带天线阵.基于时域有限差分法(FDTD)分析,给出了8×2元天线阵的设计,整个天线阵的总厚度只有1.8mm.实验结果表明,此天线阵驻波比小于1.5的相对带宽达到了4.8%,交叉极化电平低于-23dB,双极化端口的隔离度达到30dB.此天线阵可用作星载综合口径雷达(SAR)系统的天线子阵,与有源收发器件结合后组成大的有源相控阵天线.     

关于三阶线性时变系统的稳定性的一点注记

本文应用分解系统的方法[1 ,2 ] 讨论了三阶线性时变系统dx dt=A(t)x平凡解的稳定性 .放弃了系数矩阵A(t)的特征值均有负实部的要求 ,给出了保证该系统零解渐近稳定的充分条件 .     

一类单部件可修系统解的半离散化

为解决一类单部件可修系统模型的数值计算问题,首先用半离散化方法对该系统模型中的修复率μ(x)进行离散,得到离散后的偏微分方程;然后用算子半群的知识将偏微分方程转化成矩阵常微分方程,根据Trotter逼近定理证明离散后方程的解逼近原方程的解。结果表明,将半离散化方法应用到该系统模型中是可行的,从而为其进一步的数值计算提供了理论基础。     

特征p=3域上李代数T(3)的导子代数

文献[1]构造了特征p=3的域F上的Cartan型模李代数K(3)的无限维子代数T(3),讨论了它的Z-阶化成分.令G表示T(3)的所有导子所构成的李代数,若令G[t]={φ∈G|φ(T(3)[j])T(3)[t j],j∈Z},则G=∑t∈ZG(t)具有Z-阶化结构.利用归纳法证明了:若φ∈G[t],且φ(T(3)[j])=0,j=-1,0,…,s.其中s≥-1.若s t≥-2,则φ=0.以此结论为基础,按Z-次数讨论G中元素,分别证明了当t≥-2时,G[t]=adT(3)[t],当t>3时分两种情况:1)若t 0(mod3)或t≡0(mod3)但t为奇数时,G[-t]=0.2)若t≡0(mod3)但t=2k为偶数时,G[-t]=〈D3k〉.从而得到T(3)的导子代数G=adT(3)〈D3k|k≡0(mod3),k∈N〉.     

一类p-Laplacian系统同宿轨道的存在性

讨论一类p-laplacian系统d/dt(|u.(t)|p-2 u.(t))-l(t)|u(t)|p-2u(t)+▽W(t,u(t))=f(t)同宿轨道的存在性,其中p1,t∈R,u∈Rn,l:R→R,W1,W2∈C1(R×Rn,R),f∈C(R,Rn)且关于t不是周期的,结果推广和改进了文献中已有的结果.     

二阶动力学系统部分特征结构配置设计的完全参数化方法

考虑了一类二阶动力学系统的部分特征结构配置问题,其目的是设计比例加微分状态反馈律,该控制律只配置开环系统的部分特征值及其特征向量,而保持其余特征值及其特征向量不变.在可控条件下,给出了状态反馈增益阵和闭环系统部分特征向量矩阵的一种简单、完全参数化表达式,其所含自由参数向量和待配置的特征值均可看作该方法提供的设计自由度.该参数化方法直接基于原系统矩阵,故其简单性为系统设计提供了便利.数值例子表明了所提部分特征结构配置参数化方法的有效性.     

日光温室黄瓜化瓜原因及对策

<正> 日光温室黄瓜化瓜是一种常见的生理性障碍现象。能引起黄瓜化瓜的原因很多,在日常生产管理中,应根据实际情况,采取不同的预防措施,达到理想的防治效果。本文仅就日光温室黄瓜化瓜原因及防治作一简单介绍。 一、黄瓜化瓜的症状 日光温室黄瓜刚座下的瓜钮或果实在膨大中途停止,由瓜尖至全瓜逐渐变黄,于瘪,最后干枯。 二、黄瓜化瓜的原因 1.品种因素。不同品种对肥水要求不同,化瓜率也不一样。 2.高(低)温引起化瓜。白天气温高于32℃,夜间高于18℃,黄瓜正常光     

200吨/年多晶硅装置工程设计

<正>山东鼎昌硅业科技有限公司根据市场需要新建一套200吨/年太阳能级多晶硅生产装置。该装置采用改良西门子工艺,主要包括三氯氢硅提纯部分、干法回收部分、多晶硅还原与后处理部分以及配套的纯水、氮气、导热油等辅助系统。装置于2009年12月建成,2010年7月投产,产品一次分析合格,经考核,装置满足设计要求。