用锌焙砂中浸渣制备锰锌铁氧体共沉淀粉

以湿法炼锌过程中的中浸渣和挥发窑渣为原料,经浸出、还原、净化和共沉淀等过程制备软磁铁氧体所需的锰锌铁氧体共沉淀粉料.确定浸出工艺条件、硫化沉淀和氟化沉淀工艺条件.实验结果表明,中浸渣的最佳浸出工艺条件如下:温度为90～95℃,搅拌速度为200 r/min,硫酸用量为理论用量的1.15倍,时间为2.5 h,液固比为4:1;制得的共沉淀粉料中铁、锰和锌的平均含量比例与理论配方较符合,尤其是共沉淀粉料中各杂质元素含量很低,各杂质成分含量分别为Ca 0.018 0%,Mg 0.008 5%,Si 0.003 8%,A1 0.007 8%,Ni 0.017 0%,Pb0.001 2%,Cu 0.003 3%,Cr 0.002 8%及Cd 0.000 2%,达到锰锌软磁铁氧体材料对粉料的要求.     

锰锌软磁铁氧体用前驱体的直接共沉淀法制备

以锌烟灰、软锰矿和机械厂铁屑为原料,经同时浸出、净化和共沉淀后制取锰锌软磁铁氧体用前驱体.结果表明,同时浸出过程中铁、锰、锌的直收率分别为97.84%,92.47%和90.18%,浸出液中硅、铝杂质含量分别为29.29mg·L-1和6.7mg·L-1.经过净化后,净化液中的硅、铝、铜、镉、铅等杂质含量低,相对较难去除的铅、镉杂质的脱除率分别为92.61%和95.90%.经过共沉淀后, 共沉粉中的钙、镁杂质含量分别为 0.07%和0.05%.所得到的前驱体经传统铁氧体工艺后,产品质量均优于PC30的标准.     

硫酸铜杂质脱除工艺

采用中和沉淀法,以Na2CO3作脱杂剂一次性脱除农用硫酸铜中Pb,Zn,Co,Ca,Ni杂质,使之达到电镀用硫酸铜的质量要求.讨论了pH值、溶液起始浓度、溶液浓缩密度和过滤速度对除杂的影响.结果表明控制pH值为4.0,溶液CuSO4起始质量分数为30%,浓缩液密度为1.320g/cm3和慢速过滤的条件下,可使产品中的w(Pb)≤0.0005%,w(Zn)≤0.0005%,w(Co)≤0.0005%,w(Ca)≤0.0010%,w(Ni)≤0.0020%.同时采用与小试验相同的工艺流程与条件进行了现场工业试验,产品质量达到小试验产品指标,产品为蓝色有光泽晶体,结晶颗粒均匀,符合电镀用硫酸铜要求,证明该脱杂工艺路线是合理可行的,操作方便,容易实现工业生产.     

硫酸化焙烧氧化锰矿浸出锰的循环工艺

为降低氧化锰矿处理成本,有效利用电解金属锰产生的废酸,采用硫酸铵循环利用工艺,进行氧化锰矿硫酸化焙烧—浸出试验。研究结果表明:硫酸钠对氧化锰矿硫酸化焙烧及硫酸铵分解有较好的促进作用。当焙烧温度为500℃时,锰浸出率较高,而三氧化二铁很难转化为可溶性硫酸亚铁,浸出液中铁杂质含量低,锰选择性浸出效果较好。在适宜的焙烧和浸出工艺条件下,通过硫酸化焙烧和浸出,锰浸出率可达89.93%,NH_4~+回收率可达98.62%,SO_4~(2-)回收率可到88.22%。     

氢氟酸在湿法磷酸净化中的应用研究

采用氢氟酸和碳酸钠作为沉淀剂,对湿法磷酸进行了脱除金属杂质的试验研究.考察了氢氟酸和碳酸钠的添加量、搅拌速度、反应时间和温度以及静置时间对湿法磷酸中铝、镁、铁脱除率的影响.研究表明,在反应温度为40℃,搅拌速度为50 r/min,反应时间为10 min,氢氟酸和碳酸钠的添加量分别为化学计量的1.2倍和0.2倍,静置时间为1 d的工艺条件下,铝、镁和铁的去除率分别为49.2%,26.9%和21.9%,磷酸的回收率可达到90.7%.     

利用超重力富集和分离Sn-3％Fe熔体中的杂质元素铁

在粗锡精炼过程中引入超重力场,运用超重力技术研究Sn-3％Fe(质量分数)熔体中杂质元素铁在超重力场中的定向富集和过滤分离的规律,达到提纯净化粗锡的目的.结果表明,对于超重力场G=500以10℃·min-1冷却速率凝固后的Sn-3％Fe熔体,超重力场极大强化富铁相在粗锡熔体中的沉降运动,使先析出富铁相全部富集到试样的下部区域,上部几乎找不到富铁相颗粒.下部尾锡中的铁质量分数达到4.817％,而上部精锡中的铁质量分数降低到0.036％,精锡中铁的脱除率高达98.78％.在超重力场中过滤的Sn-3％Fe熔体可实现富铁相杂质和精锡液的有效分离,当重力系数大于30时,精锡的回收率随重力系数的增大而提高.在超重力场G=100,240℃条件下,Sn-3％Fe熔体过滤1 min后,精锡液几乎全部被分离到坩埚底部,富铁相杂质被截留在过滤碳毡上部,下部精锡中找不到富铁相杂质的颗粒,精锡中铁质量分数降至0.253％,富铁渣中铁质量分数高达11.528％.精锡中铁的脱除率高达91.44％,超重力场中精锡的回收率高达82.69％.     

黄铵铁矾法脱除高铁氧化锰矿浸出液中的铁

针对高铁氧化锰矿浸出过程中铁含量较高的问题,采用葡萄糖—铁粉在硫酸溶液中耦合还原浸出高铁氧化锰矿获得浸出液,再用黄铵铁矾法脱除浸出液中的铁离子,实现锰铁的有效分离。采用正交和单因素实验考察初始p H、反应温度、反应时间和硫酸铵加入量对浸出液中铁脱除率的影响。结果表明,初始p H值对浸出液中铁的脱除率影响最大,提高初始p H值和温度可以较大幅度提高铁离子脱除率,且沉矾过程能有效脱除浸出液中大量的有机物及Ca2+、Mg2+和K+等离子。黄铵铁矾法脱除浸出液中的铁离子的最佳工艺条件为:初始p H=3,反应温度95℃,反应时间1 h,铁离子脱除率达96.32%。     

萃取法脱除工业级硫酸锰溶液中钙和镁离子

以P507和羧酸A混合物为萃取剂,从工业级硫酸锰溶液中选择性萃取脱除钙和镁离子.考察硫酸锰溶液初始pH值、混合萃取剂(x（P507）∶x（羧酸型A）=1∶1)的体积分数、皂化率和相比等因素对萃取脱除钙、镁杂质的影响.实验结果表明,在硫酸锰溶液初始pH值2.3、混合萃取剂体积分数20%、皂化率20%、相比（O/A）2∶1、萃取温度30 ℃条件下,选择性地萃取脱除钙和镁离子,锰回收率为83.9%.脱除钙和镁的硫酸锰溶液用活性吸附,浓缩结晶并干燥,获得的一水硫酸锰产品符合电池级高纯硫酸锰的要求,钙和镁质量分数分别为38.4×10^-6和41.7×10^-6.     

工业硅中杂质铁去除的理论分析

分析了硅中杂质的分凝特性,计算、讨论了在定向凝固条件下硅中铁的有效分凝系数 K_(fef)和凝固速度 f的关系,并用生产实践中铁在硅锭中的分布,验证了理论分析的可靠性。提出了用组合结晶器定向凝固技术去除工业硅中杂质铁的工艺方法。     

原子吸收光谱法测定工业硫酸锌中的铁和铜

工业硫酸锌广泛应用于化工、化纤、选矿、冶金等方面,其产品中的杂质元素主要是铅、铁、锰、镉、铜等.在国家标准中[1],铁、铜采用比色法.     

GaP外延层引入杂质的成因研究

利用ＳＩＭＳ方法对一种先进的液相外延法制成的ＧａＰ处延层杂质进行了研究。这种外延层中杂质种类少，含量小，过渡元素仅含Ｃｒ和Ｆｅ，质量可与日本同类产品相比；表明外延层中杂质的引入主要来源于外延过程。还初步研究了掺杂Ｚｎ的数密度随深度的分布情况，杂质的分布与掺杂Ｚｎ的分布呈相关趋向。因此，杂质的引入还可能与Ｚｎ的纯度有关。外延层中Ｐ＾＋层的厚度估计为１μｍ。     

高效液相色谱法测定甲氧苄氨嘧啶中的腈类杂质

本文介绍了高效液相色谱法测定甲氧苄氨嘧啶中的杂质。用μporasil柱;正已烷:乙酸乙酯:甲醇(10:5:1)为流动相;流量为1.5 ml/min;柱温为30℃;压力为3.43×10~6Pa;检测波长为280 nm。测定结果较好。     

铝电解用预焙阳极中杂质元素的X射线荧光光谱法测定

用PW2403 X射线荧光光谱仪和瑞士RDC公司C-300系列标准物质建立铝电解用预焙阳极的X射线荧光光谱分析方法，该方法准确性好、测定精度高、快速简便，适用于预焙阳极中S、V、Ni、Si、Fe、Al、Na、Ca、Ph等元素的准确测定。     

锌熔法回收硬质合金质量分析

系统分析了锌熔法回收硬质合金的生产工艺及锌熔粉末质量，查明了再生硬质合金质量不的原因及杂质来源，并提出了相应的改进措施。     

偏析法净化原铝的研究

考察了原铝熔体偏析净化过程中冷却速度、搅拌方式、温度梯度等因素对偏析净化的影响,并对净化得到的杂质富集相和纯化相进行了结构研究·结果表明,冷却速度、搅拌方式和温度梯度在偏析净化过程中起着重要的作用·当冷却速度缓慢,搅拌充分,温度梯度较大时,偏析净化效果比较好·杂质Si,Fe主要分布在杂质富集相中,并以AlSiFe和AlSi化合物的形式存在     

碱浸条件下杂质离子对锌电积的影响

针对贫杂铅锌矿碱浸工艺,系统地分析电解过程杂质离子CO32-、SO24-、SiO32-、F-、Cl-、S2-对电解金属锌粉的影响.实验结果表明:CO32-、SO42-、SiO23-、F-离子对电解金属锌粉没有明显影响,Cl-离子浓度宜控制在20 g/L以下基本上满足GB/T6890-2000国家标准的锌粉三级标准,S2-离子对电解金属锌粉影响比较显著,即使在S2-微量的条件下金属锌粉的品质下降了近5%.     

Na_2WO_4溶液结晶过程中除砷、硅等杂质

以机械活化碱分解黑白钨混合中矿及常压碱煮钨渣所得高杂粗钨酸钠溶液 (m(As) /m(WO3) =(0 .32～ 2 .94)× 10 -3,m(Si) /m(WO3) =(1.2 6～ 5 .84)× 10 -3)为原料进行钨酸钠结晶过程除砷、硅等杂质的研究 ,分析了结晶率及氧化铝的添加量对除杂效果的影响 .试验结果表明 :除杂效果与结晶率有关 ,当结晶率为 80 %～ 90 %时 ,除砷率和除硅率均可达 90 %以上 ,对m(As) /m(WO3)和m(Si) /m(WO3)分别为 3 .2 1× 10 -4 和 2 .41× 10 -3 的料液而言 ,除杂后的精液中m(As) /m(WO3)和m(Si) /m(WO3)可分别降至 3 .5 0× 10 -5和 3 .5 6× 10 -4 以下 .添加Al2 O3 可明显改善结晶过程中的除杂效果 ,且Al2 O3 经化学改性处理后 ,活性增强 ,除杂效果更好 ;在相同条件下 ,与不加铝盐相比 ,添加活性Al2 O3 可使精液中的杂质含量明显降低 ,除砷率由 88.48%增加到 94.6 5 % ,除硅率由 89.77%提高至97.74% .     

发射光谱法测定硫氰酸镧中的微量杂质

引言镧及其化合物中微量杂质的光谱分析已有很多报导。采用在盐酸介中用氢氧化铵将非稀土杂质A1、V、Ti 等定量地与部分镧共沉淀出来,然后用粉沫法进行分析。文献在硝酸介质中用磷酸三丁酯萃取镧中的杂质,反萃后转变成氧化物,再用粉沫法进行分析,富集倍数15—20倍。文献则在二乙基磺酸钠及聚丙烯胺存     

GaAs中杂质扩散机制

针对杂质在ＧａＡｓ中扩散机制这一基础研究和技术应用中急需解决的问题，主要介绍了应用广泛的ｎ型杂质Ｓｉ、Ｓｎ，ｐ型杂质Ｂｅ、Ｚｎ、Ｍｇ的几种可能扩散机制以及国际上有关这些杂质研究的进展情况，从目前的研究状况可以得出这样的结论：在ＧａＡｓ中，Ｂｅ、Ｚｎ、Ｍｇ等ｐ型杂质是以置换填隙机制扩散的，Ｓｉ、Ｓｎ等ｎ型杂质是以替位机制扩散的。