首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
报道了在实验条件下,模拟轮藻的自然生长环境,采用微量的含Cd2+,Hg2+,Cr6+和敌枯双等4种药物,对布氏轮藻(CharabrauniiGm.)和普生轮藻(CharaVulgarisVaill.exL.)进行处理.随着药物作用时间的延长,布氏轮藻和普生轮藻的托叶长度较对照组都发生了显著的变化.结果表明,同一种类的轮藻,其托叶的长度可随生态环境的不同而发生变化.因此,在轮藻系统分类研究中,单凭其托叶长短来区分种、变种、亚种或变型都是不全面的.  相似文献   

2.
自然环境中的有毒物质对轮藻藏卵器大小的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
作者用含微量的Cd^2,Hg^2+,Cr6+和敌枯双的四种药物,处理布氏轮藻和普生轮藻后,经一年多的实验与观察,发现上述四种药物对轮藻藏卵器的大小和着生位置都有影响。  相似文献   

3.
轮藻托叶生态变异的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
报道了在栽培条件下,微量的Cd^2+、Hg^2+、Cr^6+和故枯霉对普生轮藻产生不同程度的影响,使其托叶长度发生较大的生态变异。试验结果表明:药物影响的大小和药物剂量及作用时间有密切关系,并指出以托叶长度作为轮藻分类的依据有待进一步研究。  相似文献   

4.
用循环伏安法研究了磷酸盐缓冲溶液(PH6.8)中苄基紫精(BV^2+)在金铂电极上的伏安特性。考察了电位扫描下限(EL),扫描速度(V),BV^2+浓度等因素对BV^2+电极过程的影响。在-0.4~0.9V(vs.SCE)电位区,BV^2+的还原表现为两个阴极峰。当EL正于第二个还原峰电位E^Ⅱpc时表现为可逆的BV^2+/^+氧化还原过程。当EL负于E^Ⅱpc时,生成完全还原产物一中性紫精BVo  相似文献   

5.
用吸收光谱实验数据和d轨道理论确定了V^2+:NaCl和V^2+:NaBr中的V^2+-Cl^-(Br^-)键长,结果表明,NaCl和NaBr中的V^2+-Cl^-(Br^-)键长明显小于未掺杂晶格中的Na^+-Cl^-(Br^-)离子距离,本文所用的方法不失为一种简单可靠的有效方法。  相似文献   

6.
报道了自合成的3种含Ln^3+的二聚物晶体Nd2(CH3COO)4(ONO2)2(C12H8N2)2(A),Sm2(C6H5COO)6(C12H8N2)2(B),Eu2(C6H5COO)6(C12H8N2)2(C)的UV-VIS-NIR光谱数据,依据Ln^3+能级图以及相应光谱项和选律,对各谱带进行了分析指认,并与Ln^3+离子和简单化合物Ln(NO3).6H2HO光谱的对比,讨论了配位场对二聚物  相似文献   

7.
王伟周  张愚 《贵州科学》2000,18(1):21-25
在B3LYP,MP2,QCISD,QCISD(T),CCSD(T),CBS-Q,G2(MP2)和G2的理论水平下,对(Cl2F)^+的单重态和三重态进行了计算。结果表明,(Cl2F)^+的两种构型(ClFCl)^+(C2V构型)和(ClClF)^+(Cs构型)都有可能存在,且(ClClF)^+比(ClFCl)^+更为稳定。  相似文献   

8.
报导用连续变化度法在非水溶剂DMF溶液中测定一种瓣合成的配体,N,N’-bis(8-quinolyl)malonamide和4种过渡金属离子Cu^2+、Zn^2+、Co^2+、Ci^2+所形成配合物的稳定常数,按共对数值的大小排列有如下顺序:Cu^2+(5.62)〉Zn^2+(4.03)〉Ni^2+(3.82)〉Co^2+(3.79),配合物的配位比为1:1。实验表明,它们的稳定性较之在水体系中,  相似文献   

9.
本文研究了采用微分脉冲极谱法测定锌-二氧化锰干电池电液中痕量铅的各项实验条件,提出孙加入任何试剂,直接利用电液中的ZnCl2-NH4Cl作为支持电解质,可得Pb^2+的微分脉冲极谱图,在此底液中,Pb^2+还原的峰电位为一-0.45V(相对于AgCl电极,实验值),峰电流ip与Pb^2+浓度Cpb^2+在0-2.0μh/ml内线性关系良好。方法简便快速,可靠实用。  相似文献   

10.
用FT-IR、UV-Vis和XPS等分子光谱和电子能谱方法研究了铜在Fe(CN)^3-6溶液中的腐蚀过程,表面膜的形成及其改性。结果表明,腐蚀膜主要由Cu^1+4Fe^Ⅱ(CN)6(大量)和Cu^2+2Fe^Ⅱ(CN)6(少量)组成,并夹杂有K4Fe(CN)6和K3Fe(CN)6;  相似文献   

11.
H+和SO2-4离子对PbO2电极上ClO-4阳极形成过程的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
用分解极化曲线法研究了H^+和SO^2-4离子对PbO2电极上O2和ClO^-4阳极形成过程的影响,分解得到的稳态极化曲线φ~lgiClO4^-和φ~lgio2上均有一电位突跃,在25℃下前一突跃生在1.9~2.0V;后一突跃发生在2.05~2.15V左右,两者在突跃区前后的Tafel斜率均接近于2.303RT/βF(其中β约为0.51~0.54),在突跃前当(H^+)减小时,使ClO^-4形成或  相似文献   

12.
根据两相滴定法研究A及ABV类体系对M^n+(La^3+,Zn^2+,CO^2+)萃取平衡的影响,考察了表观萃取平衡常数与稀释剂溶度参数之间的内在关系,建立了lgKcx与δorg之间的经验公式,其线性回归方程式可表达为logKcx=2Cex=2C2δorg+Ci。  相似文献   

13.
合成了稀土土离子(La^3+,Nd^3+,Eu^3+,Gd^3+,Tb^3+,Er^3+)与吡啶乙酸内盐(C5H5N^+CH2CO^-2,pyb)及,2,2‘-联吡啶的三元配合物。通过元素分析,红外光谱等测试手术,确定配合物的组成为RE2(bpy)5(pyb)4(ClO4)6.5H2O。测定了Eu^3+配合物的晶体结构,属三斜晶系。  相似文献   

14.
探讨Ba^2+离子搀杂对(Ca0.5Sr0.5)5(PO4)3Cl:Eu^2+和(Ca0.4Sr0.6)5(PO4)3Cl:Eu^2+量子发光效率的影响,当用Ba^2+离子代替Ca^2+或Sr^2+离子进入晶体时,Eu^2+离子的发光特性发生改变;发射峰的峰值降低;热猝灭的温度升高,并采用位型坐村理论给予解释。根据晶体的结构特征,对占据两个不等当晶体学位置的Eu^2+离子发光中心之间的能量传递进行  相似文献   

15.
单次碰撞条件下研究He(2^3S)与CO碰撞的Penning电离过程   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用分子束方法研究He(2^2S)+CO的Penning电离过程。给出了产物CO^+(A)和CO^+(B)的分支比为1:2.2。这被归结于CO(X)的1π和4σ轨道活性的差异。初生态CO^+(A)的振动分布与相应的跃迁的Franck-Condon因子一致。说明此电离过程是一个垂直跃迁过程。并详细给出了初生态产物CO^+(B,v03 7=0)和CO^+(A,v'=0,1,2,3)的转动温度,产物转动  相似文献   

16.
菲洛啉铜配合物对体外DNA损伤的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
菲咯啉、Cu^2+、还原剂体系在435nm出现特征吸收峰,表明体系中产生了(phen)2Cu^+,维考素C(VC)比巯基和还原剂时(phen)2Cu^+产量更大,·OH清除剂对phen、Cu^2+、还原剂体系损伤DNA无明显影响,但抑制对脱氧核糖的损伤,VC为为还原剂的体系中另入失活的超氧化物歧化酶(SOD)或小牛血清白蛋白对反应无影响,而活怀SOD有显抑制作用,利用顺磁共振(ESR)技术证实,  相似文献   

17.
用放射性核素^141Ce作示踪剂,通过对稀土Ce^3+在大鼠主动脉上的跨膜内流的研究表明,去甲肾上腺素(1.2μmol/L)和KCl(100mol/L)都要引起Ce^3+跨膜内流量的增加,并以KCl(100mol/L)引起的增加量较多,钙拮抗剂Veapamil(1μmol/L)对去甲肾上腺素(1.2μmol/L)和KCl(100mol/L)引起的Ce^3+跨膜内流无明显的阻滞作用。  相似文献   

18.
合成了新的含三过氧铌的钨磷杂多酸盐:M4H2「PW9(NbO)3O37」M/Me4N^+(TMA)Et4N^+(TEA),Bu4N^+(TBA),He4n^+(THA);三铌取代的钨磷酸盐:M6「PW9Nb3O40」xH2O(M=TBA和K^+).IR和UV光谱,极谱和循环伏安,  相似文献   

19.
用全活化空间多组态自洽场方法,计算了BHe^+(^3Σ^+),CHe^2+(^3Σ^-),NHe^+(^3Σ^-_OHe^2+(^3Σ^-),FHe^+(^3Σ^-)和NeHe^2+(^3Σ^-)等含氦的双原子簇合物离子三态的自旋-轨道偶合常数,得到了一些有意义的结果。与原子中的情形一样,随着电子数的增加,电子的轨道运动和自旋运动的相互作用迅速增强。  相似文献   

20.
本文首次报道了缺位K10H5「Ln(VW10O37)2」XH2O(Ln=La^2+、Ce^3+、Dr^3+、Nd^3+、Sm^3+、Eu^3+、Gd^3+、Tb^3+、Dy^3+、Yb^3+)10余种配合物的合成方法,元素分析与理论值相符,利用IR、UV、XRD和TG-DTA对配合物进行了表征,配合物的热解性质研究表明,其分解温度为400-450℃,还研究了配合物在水溶液中的稳定性。  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号