论在Auto CAD中标注表面粗糙度的方法

文章分析了机械制图国家标准GB/T131-1993对表面粗糙度标注的要求,从表面粗糙度符号的绘制、标注位置、方向以及表面粗糙度数值的注写,提出了一种在Auto CAD中标注表面粗糙度方便可行的方法.     

在Auto CAD中标注表面结构符号的一种方法

零件的表面结构符号是衡量零件表面加工质量的一项重要技术指标,也是机械图样中经常使用的一种标注符号.而在Auto CAD绘图环境下,自动化和智能化的标注表面结构符号的方法在该绘图软件中没有提供.因此,探讨方便快捷的标注表面结构符号的方法,对提高绘图的效率和质量、减轻劳动强度有着积极的意义.在分析国家标准GB/T131-2006<产品几何技术规范(GPS)技术产品文件中表面结构的表示法>的基础上,从表面结构符号的绘制、标注位置、方向以及表面结构符号数值的注写,提出了一种在Auto CAD中标注表面结构符号方便可行的方法.     

在AutoCAD中标注表面结构符号的一种方法

零件的表面结构符号是衡量零件表面加工质量的一项重要技术指标，也是机械图样中经常使用的一种标注符号。而在AutoCAD绘图环境下，自动化和智能化的标注表面结构符号的方法在该绘图软件中没有提供。因此，探讨方便快捷的标注表面结构符号的方法，对提高绘图的效率和质量、减轻劳动强度有着积极的意义。在分析国家标准GB／T131--2006《产品几何技术规范（GPS）技术产品文件中表面结构的表示法》的基础上，从表面结构符号的绘制、标注位置、方向以及表面结构符号数值的注写，提出了一种在AutoCAD中标注表面结构符号方便可行的方法。     

在Auto CAD中标注表面结构符号的一种方法

零件的表面结构符号是衡量零件表面加工质量的一项重要技术指标,也是机械图样中经常使用的一种标注符号。而在Auto CAD绘图环境下,自动化和智能化的标注表面结构符号的方法在该绘图软件中没有提供。因此,探讨方便快捷的标注表面结构符号的方法,对提高绘图的效率和质量、减轻劳动强度有着积极的意义。在分析国家标准GB/T131—2006《产品几何技术规范(GPS)技术产品文件中表面结构的表示法》的基础上,从表面结构符号的绘制、标注位置、方向以及表面结构符号数值的注写,提出了一种在Auto CAD中标注表面结构符号方便可行的方法。     

若干溶解、腐蚀后固体表面的分数维研究

固体表面溶解、腐蚀时粗糙度变化的研究,对于矿石溶出、金属腐蚀、材料表面处理和化学加工等都有参考价值。近年来,用分数维(fractal)方法研究固体表面沉积时粗糙度的变化已有大量研究工作,而固体表面溶解、腐蚀时粗糙度变化的研究则很少见。本文报道用典型实验和计算机模拟探讨这一问题的初步结果。 1 单晶硅抛光面用NaOH溶液的腐蚀结果     

壁虎在不同粗糙度的竖直表面的黏附

壁虎的脚掌上具有脚爪和刚毛两种附着器官,两种器官具有不同的附着机制,二者协同作用使壁虎具有在任意粗糙度的竖直墙面和天花板上自如运动与附着的能力.将壁虎脚掌上的脚爪去除后,放置在14种不同粗糙度的竖直的砂纸表面,以研究壁虎仅依靠刚毛时的附着能力.研究结果表明,仅仅依靠刚毛附着时,壁虎在各类砂纸表面的滑移速度、内收速度等存在差异性.滑移速度随着砂纸表面上颗粒直径与间距比值增大而减小,表面粗糙度并不是影响黏附性能的直接原因,其黏附性能由刚毛尖端末梢与砂纸表面的接触面积决定.研究壁虎脚掌刚毛在不同粗糙度的竖直表面的黏附性能,可以为设计基于仿壁虎刚毛黏附的爬壁机器人提供参考.     

用氩离子束抛光制作石英超光滑表面

超光滑光学表面广泛地应用在短波段光学领域,如同步辐射光束线的反射镜、软X射线波段的多层膜基底等.其表面的粗糙度通常要求小于0.5nmRMS.目前粗糙度好于0.5nmRMS的光学表面是采用特殊磨料,用非常规方法加工的,其缺点是工艺难度大,技术要求高,抛光的均匀性也难以保证.把离子束刻蚀技术用于超光滑表面的抛光这一加工方法,不仅可以提高抛光质量,而且大大提高了工作效率,并确保了工艺的稳定性和抛光的均匀性.     

植被下垫面近地层大气动力状态与动力学粗糙度长度的相互作用及其参数化关系

通常人们将表面动力学粗糙度长度看作常数,但在植被下垫面由于表面粗糙元与近地层大气动力状态的耦合作用,动力学粗糙度长度具有显著的动态变化性.本文利用中国北方协同观测试验中森林、农田和草地等不同植被类型下垫面的观测资料,分析了动力学粗糙度长度随风速和摩擦速度的分布特征,给出了不同植被类型下垫面动力学粗糙度长度与风速u和动力学综合变量u2/u*的拟合关系式.研究发现:植被下垫面动力学粗糙度长度的动态变化与近地面层大气动力状态之间存在复杂的相互作用过程,动力学粗糙度长度与u和u2/u*的拟合关系不仅与植株高度等植被的粗糙特征有关,而且还受植株柔软性等动力响应特性影响.由于近地层大气动力状态能同时改变植被粗糙特征和气流运动特征,所以动力学粗糙度长度虽然随风速的增加而减小,但随摩擦速度的变化则比较复杂,明显依赖植被类型.在植株较高的森林和玉米农田下垫面动力学粗糙度长度与风速的相关性比较好,但在植株比较低矮的自然草地下垫面则相关性较差.不过,研究的3种植被类型下垫面动力学粗糙度长度与u2/u*的相关性均比较好,而且试验拟合系数基本反映了不同类型植被的植株高度和柔软性.     

硅片空蚀实验中表面粗糙度和润湿性的影响

通过几何形貌变化和沉积Au和DLC超薄膜改变硅片的表面粗糙度和润湿性, 利用自制的振动空蚀实验装置对硅片在去离子水中的材料微观破坏情况进行研究. 扫描电子显微镜(SEM)和表面形貌仪用来对实验前后的硅片表面形貌进行检测; 采用接触角测量系统对试样表面润湿性进行表征. 结果表明, 振动空蚀实验后硅片表面会产生由于脆性断裂引起的微小蚀坑和裂纹, 随实验时间增加, 蚀坑和裂纹的数量增加且尺寸增大, 造成材料剥落; 几何形貌引起的粗糙度增加和表面沉积Au和DLC超薄膜引起的表面接触角增大, 都使得硅片的空化更易于发生, 从而加重了空蚀破坏程度.     

砂轮磨钝与磨削后的工件表面质量

国外的磨削研究工作者对砂轮表面磨粒的形状变化已经进行过某些观察。苏联的曾使用显微立体照相测量方法绘制砂轮表面磨粒的等高线图。这个方法比较复杂,也不能简易地获得磨粒侧形的直观图像。德国的 Pahlitsch 用低转速圆柱形试件向砂轮送进,并使试件旋转不超过一周以避免切痕重叠,然后量出试件的表面粗糙度并称之为砂轮的有效粗糙度。这方法虽然能间接地反映砂轮表面状态,但是不能说明磨粒的实际形状。     

工程招投标中围标与陪标现象分析

文章对项目招投标中各种围标与陪标行为进行分析,阐述了围标与陪标产生的影响,并对打击围标行为提出了合理建议。     

工程招投标中围标与陪标现象分析

文章对项目招投标中各种围标与陪标行为进行分析,阐述了围标与陪标产生的影响,并对打击围标行为提出了合理建议。     

影响沥青混凝土面层不平整的因素

由于路面平整度具有波浪形式的特性,沥青路面不平整首先来源于路基表面,然后层层向上传递,直到沥青路面,因此要在路基、基层、桥涵台背回填及沥青面层时都要严格按规范施工。文章主要从路面施工方面探讨造成沥青路面不平整的原因。     

多协议标记交换技术在电力系统的应用

介绍了多协议标记交换技术的发展应用及技术特征,并对其应用前景做了展望。     

有机硅改性丙烯酸酯涂层的微/纳凸柱状织构化及其防污性能

经过"硅片模板-PDMS模板-目标涂层"的制备过程,实现了具有规则微/纳凸柱状织构表面的有机硅改性丙烯酸酯涂层的制备.利用傅里叶红外光谱仪(FTIR)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和接触角仪系统表征了所制备涂层的物理化学性能,并以绿藻门的丝藻和硅藻门的舟形藻作为研究对象,考察了涂层的防污性能.研究结果表明,织构化涂层表面的接触角随微/纳凸柱状织构的表面覆盖率增加而增加,而丝藻和舟形藻的附着量随着微/纳凸柱状织构化表面覆盖率的增加而减小.当微/纳凸柱状织构表面覆盖率为21%时,相对于无织构化涂层,丝藻的附着量降低了82%,舟形藻的附着量降低了73%.通过对比两种藻类与微/纳凸柱之间距离的大小并结合织构化涂层的润湿行为,分析了织构化涂层有效防除丝藻和舟形藻附着的原因和机理.     

浅淡用电检查中的反窃电

通过在电力营销部门全面开展反窃电工作,可以监督、检查用电检查中反窃电全过程及各环节,主动、及时地发现问题、暴露问题、解决问题,不断完善内部管理、建立长效管理机制,促使反窃电各环节按时、有序、保质完成。     

浅谈宋代附加语素“-儿”的发展

“:儿”从独立的词语法化为附加语素经历了复杂的过程。宋朝时“期-儿”缀的使用频率很高,而且由小称后缀发展成名词标记。本文拟通过语料分析,揭示这一重要变化及其原因。     

太原火车站站前广场标识系统现状分析与应用初探

文章在对太原市火车站站前广场标识系统的理论分析和现状调研的基础上，提出了太原市火车站标识系统设计的设置位置和信。忽样式的建议，这对城市公共空间标识系统设计和管理工作具有重要的方法和意义。     

不同粗糙度平面上静止颗粒堆底的切应力分布

在两种不同粗糙底面上测量了用从固定点以相同流量落下颗粒的方法制备而成的圆锥堆底的切向应力分布.结果显示,粗糙度大的底面有相对较大的切向应力.利用一般的力平衡方程、库仑不等式、圆锥堆侧面的自由边界条件以及测量的数据可以验证,堆底面切向应力强度与法向应力分布出现中心凹陷现象有关,切向应力越大凹陷现象越明显.另外,提出了一个颗粒堆的非线性应力关系唯象模型.     

a-SiN:H薄膜的对靶溅射沉积及微结构特性研究

采用对靶磁控反应溅射技术以N₂和H₂为反应气体在硅(100)和石英衬底上制备了氢化非晶氮化硅(a-SiN:H)薄膜. 利用台阶仪、原子力显微镜、紫外-可见(UV-VIS)光吸收和傅里叶红外透射光谱(FTIR)对薄膜沉积速率、微观结构及键合特性进行了分析. 结果表明, 利用等离子反应溅射可在较低衬底温度条件下(T_s<250℃)实现低表面粗糙度和高光学透过率的a-SiN:H薄膜制备. 增加衬底温度可使薄膜厚度减小, 薄膜光学带隙Eg提高, 薄膜无序度减小. FTIR分析结果表明, 薄膜主要以Si-N, Si-H和N-H键合结构存在, 随衬底温度增加, 薄膜中的键合氢含量减小, 而整体键密度和Si-N键密度增加. 该微观结构和光学特性的调整可归因衬底温度升高所引起的衬底表面原子迁移率和反应速率的增加.