钴铝比对钴蓝颜料反射光谱的影响

采用燃烧法合成了钴蓝颜料(CoAl3O4),研究了钴/铝的物质的量之比(nCo/nAl)对光反射性质的影响.采用XRD和反射光谱表证了样品的物相和光反射特性.XRD研究表明非计量比条件下,物相仍然保持尖晶石结构.发现nCo/nAl=1:3时,钴蓝的色纯度最好.     

纳米片组成的SnS_2和SnO_2空心球的制备

以SnCl_4·4H_2O和巯基乙酸为前驱体,通过十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)协助下的溶剂热法合成了厚度为20nm的纳米片组成的二硫化锡空心球。合成的产品经过XRD、FESEM、TEM、HRTEM、UV-vis和荧光分光光度计进行了表征。研究了反应条件对二硫化锡纳米结构的影响,探索了二硫化锡空心球的形成机理,并研究了氧化锡空心球的光学性质。     

铝/玻璃镜膜基结合强度的测试与研究

本文通过对铝镜表面形态、断面结构及铝与玻璃结合性质的研究,我们认为铝已渗入玻璃表面,部分铝是以Al_2O_3的形式存在于玻璃中的。本文提出一种用J-19粘结剂将螺栓固定在铝膜表面并垂直拉开的方法,来测定结合强度。用此法测试的结果表明:铝膜厚度、玻璃基底温度、清洗效果、辉光放电、蒸镀温度等条件对结合强度均有影响,后者影响最大。粘接接头热处理时因受热应力的影响,拉伸实验中出现玻璃本体的内聚破坏。工艺良好的铝镜膜基结合强度超过2.76kg/mm~2。     

空调遥控器液晶碘迁移失效的研究与应用

偏光片是LCD液晶显示器的核心原件,其贴附在液晶玻璃上下侧,配合液晶的转动控制光线在液晶面板内的通过与否来达到显示效果。偏光片有三种类型,包括透射类型、反射类型和半透半反类型。由于反射类型偏光片是靠自然光反射显示,因而,不需要背光源,具有省电、低成本的特点,在家电遥控器领域得到广泛应用。在偏光片生产制作程中,是通过涂覆一层铝膜来实现反射功能,由于铝属于活泼性金属,因而在湿热环境中容易被氧化,使得偏光片失去反射功能,造成显示性能的缺陷。     

退火温度对未掺杂ZnO薄膜的结构、电学和光学性质的影响

本工作利用磁控溅射技术在石英衬底上生长出沿c轴择优取向的未掺杂ZnO薄膜,利用X射线衍射,光致发光,X射线光电子谱和Hall效应测量技术,研究了退火温度对结构、电学和光学性质的影响.发现真空退火可以提高ZnO的晶体和光学质量.生长的ZnO薄膜呈绝缘性质,经真空退火后变成导体,且导电类型和电性随退火温度而改变,并经590℃退火后获得p型ZnO.本文对退火影响ZnO结构、电学和光学性能的物理机制进行了讨论.     

二苯胺类双席夫碱配体的非线性光学性质理论研究

运用有限场FF/PM3、FF/AM1及ab initio HF/6-31G方法从理论上探讨二苯胺双席夫碱类化合物分子结构特征、构象转化等对电子性质及非线性光学性质的影响,分析了双席夫碱配体偶极矩、极化率、超极化率对构象的依赖关系,为研究二苯胺双席夫碱配合物的非线性光学性质和发光特性奠定了基础.结果表明二苯胺双席夫碱类化合物具有较大的非线性光学系数,从理论上为进一步探索优质非线性光学材料提供依据.     

免水洗锌钙系磷化膜的常温制备与表征

钢铁试片在以磷酸、氧化锌、硝酸钙、钼酸铵等参加成膜反应且产物为磷化膜、沉渣和易挥发物的材料组成的锌钙系磷化液中常温快速磷化,然后自然干燥2 h以上,生成了免水洗的彩色锌钙系磷化膜.通过扫描电镜(SEM)、电子能谱(XPS)、腐蚀、喷涂等测试手段对磷化膜进行表征.结果表明:免水洗的磷化膜,由Fe3 ,Zn2 ,Ca2 的磷酸盐及少量的钼酸盐等组成,膜晶粒尺寸≤2μm,膜连续、致密,膜重约1.2 g.m-2,耐3%的NaCl溶液腐蚀约2.5 h,喷涂铁红环氧底漆后检验涂层的附着力达一级,比传统工艺(磷化后水洗)形成的磷化膜质量更好.     

TiO2光催化膜负载机理和技术研究进展

为更好地推进均匀、牢固和高活性TiO2光催化膜的制备及其应用研究,从固体表面化学、固相扩散以及烧结反应3个方面综述了载体性质对TiO2膜催化活性和牢固度影响的研究,即TiO2在载体表面的吸附和键合作用、载体元素在TiO2膜内的扩散渗透作用以及烧结过程中载体性质对TiO2晶粒和晶型的影响.     

不同表面活性剂对电沉积半金属Bi膜的影响

采用电沉积方法在氧化铟锡玻璃（ITO）基板上制备出Bi薄膜,研究了阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）、阴离子表面活性剂十二烷基磺酸钠（SDS）以及非离子表面活性剂（Brij56）对Bi3＋的循环伏安行为、Bi膜的结构以及表面形态等的影响.通过X射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）对Bi膜的表面结构形态进行了表征.结果表明,Brij56对Bi纳米颗粒的形态影响较小,以CTAB和SDS为添加剂可分别获得片状和树枝状结构的Bi纳米颗粒.     

氧化铝陶瓷／金刚石膜复合材料的表征及介电性质研究

采用ＭＰＣＶＤ和ＨＦＣＶＤ在氧化铝陶瓷基片上沉积金刚石薄膜,用抛电镜,Ｘ躬一衍射和Ｒａｍａｎ散射分析表征了沉积膜的质量,并测这和分析了氧化铝／铝金刚石膜复合材料的介电性质。     

液晶Langmuir—Blodgett膜的热电效应

介绍使用水平提拉法制备非中心对称的液晶Langmuir-Blodgett(LB)膜.吸收光谱和形貌观察表明LB膜中液晶分子以聚集体的方式存在,LB膜的静态热电系数为10~(-11)C·cm~(-2)·K~(-1)量级.同时讨论了LB膜结构变化对静态热电系数的影响.     

掺铝氧化锌透明导电薄膜生长及光电性质研究

采用磁控溅射在载玻片上制备掺铝氧化锌AZO透明导电薄膜,并用扫描电子显微镜观察薄膜的表面形貌,四探针电阻率测试仪测量样品的方块电阻和电阻率,分光光度计测量薄膜透射率.结果表明当功率、温度、氢气掺杂比为200 W、300℃、8%时,制备的AZO薄膜具有最小的方块电阻和电阻率,且在可见光区域内透射率均超过80%.     

模拟空间原子氧对Teflon FEP/Al薄膜性能的影响

采用同轴原子氧模拟装置进行了空间原子氧效应对温控材料Teflon FEP/Al薄膜的影响研究.在束流密度为1.07×1016atoms/cm2·s的条件下,对材料进行不同剂量辐照,研究了Teflon FEP/Al薄膜的质量损失、表面形貌、表面粗糙度和光学性能的演化规律和表面元素的组成变化.试验结果表明,材料的质量损失与原子氧辐照剂量成正比例关系.随着原子氧辐照剂量的增加,材料的表面形貌由平整变为"地毯状"形貌,表面粗糙度、太阳吸收率和太阳吸收率与热发射率的比值发生明显变化,从而导致材料光学性能发生变化.辐照前后材料表面成份组成变化不大.     

电子束蒸发的α—Si1—xCOx薄膜的光吸收特性

研究了电子束蒸发的掺过渡金属Co的非晶硅基薄膜α-Si_(1-x)Co_x的光吸收特性,结果表明,这类薄膜的组分变化,对近红外长波的吸收特性影响灵敏.0.10at%相似文献   

光照对金刚石薄膜压阻效应的影响

分析研究ＣＶＤ方法制备的多晶金刚石薄膜的压阻效应，结果表明光照对金刚石膜的压阻效应有显著的影响，并对所得结果进行了讨论。     

氟离子辐照对聚四氟乙烯基底上金属薄膜附着力的影响

用6 MeV的氟离子对淀积在聚四氟乙烯基底上的In、Sn、Al、Cu、Pd和Ni等金属薄膜进行了一定剂量范围的辐照,测定了发生增强附着效应的阈剂量值.结果表明,阈剂量的大小和膜材料的弹性模量及电子阻止本领有关.据此提出了一个增强附着效应起因于膜内应力变化的假设.应用这一假设解释了一些与增强附着效应相关的现象.     

Ising反铁磁薄膜表面自旋再构

在具有近邻和再次近邻交换积分下,本文就在外磁场中的体心立方结构(bcc)的任意厚度反铁磁Ising薄膜讨论了由于表面的存在对自旋结构的影响,然后精确求解了该模型的基态.     

氧气流量对反应磁控溅射铜氧化物薄膜结构和光学性质的影响

反应磁控溅射方法在玻璃基片上沉积铜氧化物薄膜,研究氧气流量对薄膜结构和光学性质的影响.用X射线衍射仪检测薄膜的结构,分光光度计测量薄膜的透射和反射光谱,采用拟合正入射透射光谱数据的方法计算薄膜的折射率、消光系数及厚度.结果表明,薄膜沉积过程中,随着氧气流量的增加,铜氧化生成物从Cu2O逐步过渡到Cu4O3,最后为CuO;当氧氩流量比为6：25时,生成单相多晶结构的Cu2O薄膜,薄膜的折射率和消光系数随波长增加而减小,带隙为2.49 eV;不同氧气流量条件下制备的Cu2O,CuO薄膜的折射率和消光系数随氧流量的增加而增加.     

Ni（mpz）_4X_2（X＝Cl，Br，I）型化合物光磁性质的理论研究

利用ｄ８（Ｄ４ｈ＊）全组态混合统一晶场理论对Ｎｉ（ｍｐｚ）４Ｘ２型化合物光谱、零场分袭（ＺＦＳ）、（ＤＰＲ）参量、顺磁磁化率进行了统一的理论计算，理论结果与实验观测值吻合较好．因此对该化合物的光、磁性质作出了完全统一的理论解释．     

合金化对铸态Fe3Al合金压缩性能的影响

对１７种成分配比不同的Ｆｅ３Ａｌ合金的铸态压缩性能进行了检测，实验结果表明，合金化过程对Ｆｅ３Ａｌ材料的铸态压缩力学性能影响很大，稀土Ｃｅ的作用尤为明显。