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本文考虑下列三个问题:估计dl(λ)=min|μi-λ|的上界,其中μi(i=1,2,…,n)是Bn的特征值. 相似文献
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本文对电磁场数值计算中经常遇到的一些奇异性问题进行了讨论.一般的处理方法是从积分域中挖去奋点rs的一个小的ε邻域Nε(rs)当ε很小时这种方法能达到一定精度,但对ε的取值不能进行定量分析,本文的处理方法是积分域绕开奇点rs然后将被积函数在奇点rs处展开成级数从而获到奇点处积分的近似式和截断误差. 相似文献
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采用汞空位扩散模式,解释了高温(600℃)短时间(10'~15')热处理后使Hg0.8Cd0.2Te变成P型的现象,把热处理后样品逐层减薄,同时用范德堡法[1]在77K (液氮温度)下进行霍尔测量,得出在不同汞压、不同时间下样品中汞空位的分布.由此验证了汞空位扩散模式,并计算得600℃下Hg0.8Cd0.2Te中汞空位扩散系数DL为2×105微米2/小时左右;汞空位最终浓度Lf与汞压成反比,其比例常数(KF)/Ki为5×1019·厘米-3大气压;汞空位激活能Q为0.6电子伏特左右. 相似文献
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以高氯酸铵和铝粉为分散相,端羟聚醚二醇为连续相,考察了总固体粒子的体积分数φ,粒度比R,以及小粒子占固体总量的体积分数φs对浓悬浮液流变性能的影响.对双峰分布分散系,浓悬浮液的粘度在φs=0.30时达到最小,并随R的减小而下降.固体细粒子对浓悬浮液的假塑性程度关系极大.当悬浮液中细粒固体增加或粒度比减小时,体系假塑性程度增大;有非球形粒子的悬浮液中,φ和φs的影响更大,但宽分布球形粒子构成的二元系,φ对假塑性的影响比窄分布体系小. 相似文献
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本文将Banach空间上的线性时滞控制系统dx(t)/dt=Ax(t)+∑i=0k (Biu(t-ri))+∫10 (B(θ)u(t+θ)dθ,t ≥ 0,(0=r0 < r1 < … < rk=r<∞)). 相似文献
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从理论和实验技术上讨论了等温衰减电流(IDC)法及其在有机固体陷阱研究中的应用;介绍了根据Simmons等人的理论研制的实验装置:和对几种有机固体薄膜馅阱的研究; 得到了高斯分布型陷阱的峰值能级Em,分布宽度参数σ,和能态密度N(E),以及载流子热释放的频率因子v等重要的陷阱表征参数. 相似文献
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大家知道具有松弛效应非均匀介质中的KDV方程为ut+2au+(α+ax)ux-6uux+uxxx=0(1.1) 相似文献
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设非负随机变量T1,T2,…,Tn,…独立同分布,分布函数F为连续,而{N(t),t ≥ 0}是以T1,T2,…为相继到达时间而产生的更新计数过程.本文求出了当t ≥ 0,s ≥ 0时,剩余寿命γ(t)与γ(t+s)的联合分布函数以及其混合矩当t,s→∞时的极限性态.结果表明t,s→∞时,γ(t)和γ(t+s)是渐近独立的. 相似文献
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按金属与半导体接触的载流子输运理论,计算了n或p型InP的比接触电阻ρo值.计算结果以势垒高度φB自0.3~1.0eV,ρo与载流子浓度(1018~1021cm-3)关系用图表示出来.当退火温度小于350℃,3分钟退火Au与InP的φB并不改变.如退火温度大于350℃,则Au与n-InP在3分钟退火后形成差的欧姆接触,但对p-InP则只是势垒退化,即φB降低.这样合金化开始温度应在350℃左右.用本文实测及文献中发表的AuZn/p-InP的实验数据与理论计算进行比较,对目前p型InP欧姆接触工艺中存在的问题进行了讨论. 相似文献
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用深能级瞬态谱(DLTS)法,结合表面光伏(SPV)法,研究了1MeV能量和不同剂量的电子辐照下对N型液相外延(LPE)、汽相外延(VPE)GaAs层逐次引入的缺陷和400-500K温区等时退火行为.讨论了随辐照剂量逐次增大及等时退火后缺陷浓度NT的变化,以及根据L2/D对NT-1作图来判别电照引入的"E"缺陷能级中对少子寿命起主要控制作用的复合中心能级. 相似文献
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指数和在扩频序列设计中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
设p为奇素数,n、m、e、r是满足如下条件的正整数:n=em,1 ≤ r ≤ e-1,(r,e)=1,k是p次本原单位根,q=pm,J:z→ktrm1(z)是有限域Fq上加法特征.对任意a,b∈Fqe,定义指数和e(a,b)=∑x∈FqeJ[trmn(ax+bxqr+1)],其中trmn(°)表示从Fqe到Fq上的迹函数.文中求出了指数和e(a,b)的值,并讨论了该指数和在扩频序列设计中的应用. 相似文献
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K5Bi1-xErx(MoO4)4固溶体的晶体数据 总被引:1,自引:0,他引:1
用衍射仪和德拜-谢乐相机,Cu靶Ka辐射,收集了K5Bi1-xErx(MoO4)4(x=0,0.1,0.3,0.5,0.7,0.9,1.0)的X射线粉末衍射图谱.K5Bi1-xErx(MoO4)4(x=0~1)在x的变化范围内是固溶体,它们属于三方晶系,空间群为五R3m,Z=1.5,K5Bi0.9Er0.1(MoO4)4晶胞参数为:a=0.6020nm,c=2.0740nm. 相似文献
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用电导法检测了砷化镓肖特基场效应管中的深能级中心,测试样品有外延材料及全离子注入两种.#br#实验结果表明在所有的场效应管中都存在有EV+0.91eV及EV+0.52eV两个深能级中心.前者是铬产生的能级.在噪声很大的全离子注入场效应管中还发现有EV十0.71eV能级.在一些噪声大的外延场效应管及性能已退化的场效应管的深能级瞬态谱上还有一很宽的大幅度的带,相应能级位置约在EV十0.12eV到EV十0.5eV之间.这可能是由界面态所引起的.测试表明全离子注入法制造的场效应管中的缺陷可少到最好的外延材料制造的场效应管水平. 相似文献