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本文主要研究完备的线性赋范空间,(即Banach空间)中的不动点问题,文献[1]、[2]讨论了两个完备的度量空间之间的不动点问题,文献[3]讨论了紧度量空间中连续自映射的不动点问题.本文在上述结果的基础上,给出了完备的线性赋范空间中的一个自映射在满足一定的条件下不动点的存在性与唯一性问题,给出了一个新的不动点定理. 相似文献
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文献[1]中Youness提出一类E-凸集和一类E-凸函数,削弱了已有的凸集和凸函数。文献[2]中Duca和Luspa利用两种上方图的概念(epis(f)和epi^E(f)),给出了E-凸函数的一些性质。本文在较弱的凸性条件上,利用文献[3]所得结论给出了E-凸函数的一些新性质。 相似文献
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一阶积分-微分方程周期边值问题的极值解 总被引:1,自引:0,他引:1
通过建立新的比较定理和利用上下解单调迭代方法,获得了最大解和最小解的存在性定理。其结果是文献[1]和文献[2]给定最近结果的必要改进和补充。 相似文献
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曾红云 《长沙水电师院学报》2001,16(1):77-78
具单个周期洞的无限弹性平面问题在文献[1]中给出了提法,并借鉴文献[2]处理非周期孔洞问题的方法,作了一个WepMaH变换,把周期带中有多个洞的具平动位移的边值问题转化成一个Fredholm方程,并证明方程解在存在唯一。 相似文献
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本文在文献[1]的基础上得出π-拟幂零群的几个性质,并推广了文献[1]中的一个结论. 相似文献
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宋昭润 《湘潭大学自然科学学报》1996,18(4):70-72
本文报道了一种新型的TTL与非门电路,该电路的特点是,当输入信号突然从高电平跳变到低电平的瞬间,不会产生电源电流干扰尖脉冲。 相似文献
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对LDD MOSFET的两种形成技术——侧向刻蚀和边墙技术进行了分析和比较,证明了边墙技术对控制轻掺杂区域长度具有更高的精确性;同时,利用边墙技术和全离子注入工艺,在硅栅NMOS工艺基础上,成功地制得了1μm沟道长度的LDD MOSFET.测试结果表明,LDD MOSFET击穿电压高于常规MOSFET 3V以上,同时阈值电压的短沟效应明显减小.这些优点意味着LDD MOSFET结构在VLSI中有着广泛的应用前景. 相似文献
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本系统采取在低压供电端用三相全桥可控硅整流器作为前置预调节器,再用晶体管串联调整器与直流高压反馈信号构成双回路闭环[1],达到了直流高压输出电压稳定度<0.1%,纹波系数<0.01%。文中对稳压各环节的参数进行了详细的分析及定量计算。 相似文献
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一、引言 超高反压大功率晶体管DF104是电视机的重要电子器件。提高其质量和合格率是发展国产电视机的重要课题之一。在严格的器件设计和工艺条件下,采用低补偿度的优质硅单晶材料,能有效地提高这晶体管的击穿电压及其合格率,从而降低其成本。 实验用的衬底硅单晶片是电阻率大体相同(P≈80Ωom)的N-Si。实验时,从同一硅单晶锭切下硅片,用55K低温霍尔法和迭代法抽样检测其杂质补偿度K,再将和抽样检测样品相邻的硅片,经严格抛光清洗之后投片生产晶体管。每次生产条件严格保持相同。对生产出的晶体管,统测其耐压BV_(ceo)和BV_(cbo)及其合格率ξ,η等。合格率ξ和η分别定义为耐压≥某额定耐压BV_(ceo)和BV_(cbo)的成品数对总成品数之比。 相似文献
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关于变压器电势方向的理论商榷 总被引:1,自引:0,他引:1
本文主要讨论了关于变压器电势的方向问题。按左螺旋定则设感应电势的正方向,可得出变压器原、副绕组的相电势(相电压)为同相位的结论。这样,较易于理解感应电势的物理性质,更重要的是这一结论和实验结果及国家标准GB1094—71相一致。 相似文献
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本文对由油膜轴承支撑的柔性转子系统的油膜振荡失稳门槛转速值的估计作了研究,从理论上证明了如下事实:一般的转子系统的失稳门槛速度必大于对应的等价单转盘转子的失稳门槛速度.这一结论提供了一个用以估计实际转子系统失稳转速的简单工程计算方法. 相似文献
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在MOS器件的二维窄栅效应(NGE)的数值分析中;引入了迁移率模型.改进了chung-Sah的常数迁移率近似的结果.发现其电导曲线的斜率随棚压增大由增加变为减少;其阈值电压的窄栅效应变化比常数迁移率时的大,并提出了新的窄栅效应阈值电压模型公式.当从实验上或二维计算中已知一个窄栅器件以及宽栅器件的电导——栅压特性后,就可推知其它栅宽器件的阈值电压.此模型公式用二维计算值及实验值进行了验证. 相似文献