Cu2O薄膜的制备及其光(电)催化降解甲基橙性能研究

采用循环伏安法,在1mol／L的KOH溶液中控制电位-1000mV--450mV（V8SEC）之间以1mV／s的速度扫描,在铜片基体上生成Ca2O薄膜。采用阴极电沉积法,以0．1moL／L的CH3COONa和0．02moL／L的（CH3COO）2Cu溶液作为电解液,控制恒电位-245mV（vs SEC）、室温条件下电沉积2h-3h在石墨板上制得Cu2O薄膜。分别用两种方法制得的薄膜催化剂对甲基橙溶液进行了光催化及光电催化降解。实验表明：铜片基体上膜的降解效果稍好于石墨基体上的膜;当加偏压后,偏压越大降解率越高。在反应器中,两种不同基体制备的薄膜,其光电催化降解甲基橙的降解率均可迭70％．     

Zn^2＋对电化学合成聚苯胺膜的影响

应用循环伏安法和扫描电子显微镜(SEM)研究了ZnSO4对电化学合成聚苯胺(PAN)的影响．结果表明，在含0．1mol／L苯胺的1．0mol／L硫酸溶液中加入0．1～1．0mol／L的ZnSO4，能提高PAN膜的电沉积速度；Zn^2 还能使电聚合的PAN膜在1.0mol／LH2SO4溶液中的电化学降解速度降低，并导致PAN膜的表面呈现多孔状的形貌．     

石墨电极上电沉积钯镍合金的循环伏安研究

用循环伏安法对NiSO4 与PdCl2 混合溶液合成钯镍合金纳米线的电化学沉积条件进行了研究 .结果表明 ,钯镍离子混合液中钯的析出对镍、氢的电极过程有很强的去极化作用 ,使镍的析出电势正移 ,减小了钯、镍析出电势的差距 .钯离子浓度为 2mmol·L- 1,镍离子浓度为 0 .32mol·L- 1时 ,有利于形成钯镍合金 .高超电势和大电流密度下可以实现钯、镍共沉积 .但高浓度和高超电势下 ,电沉积的电流密度大 ,使金属的沉积速度过快 ,不利于形成钯镍合金纳米线 .钯镍析出电势相差较大 ,在低超电势条件下 ,难于实现共沉积 ,需通过加入添加剂或络合剂等其它方法来改变钯、镍的析出电势 ,使二者析出电势更进一步接近以达到共沉积的目的 .     

锌-铁合金电沉积机理研究

采用循环伏安法研究了在含柠檬酸的硫酸盐溶液中玻碳电极上锌-铁合金电沉积机理。比较单金属和锌铁共沉积时的伏安行为,发现在本实验条件下,锌、铁和锌-铁合金电沉积都按三维成核/生长机理进行,且不发生UPD过程,但成核过电位却相差较大,电沉积合金时成核过程要比电沉积单金属时容易得多。沉积物中铁含量同溶液中Fe~(2+)离子与沉积金属离子总量之比的关系表明,锌-铁共沉积表现异常现象。实验表明,锌离子阻化铁的沉积;而铁离子则对锌电沉积起一定的促进作用。     

高速电镀锌－镍合金

采用高速电镀实验装置强制电解液湍流运动，在高电流密度下，对简单硫酸盐体系中Ｚｎ－Ｎｉ合金电沉积规律进行了研究，证明Ｚｎ－Ｎｉ共沉积为异常共沉积，镀液中［ＮＩ］／［Ｎｉ＋Ｚｎ］比及电流密度增加，镀层镍含量上升；镀液流速增加，镍含量下降。确定了高速电镀该合金工艺。     

高速电镀锌—镍合金

采用高速电镀实验装置强制电解液湍流运动，在高电流密度下，对简单硫酸盐体系中Ｚｎ－Ｎｉ合金电沉积规则进行了研究。证明了Ｚｎ－Ｎｉ共沉积为异常共沉积，镀液中［Ｎｉ］／［Ｎｉ＋Ｚｎ］比及电流密度增加，镀层镍含量上升；镀液流速增加，镍含量下降，确定了高速电镀该合金工艺。     

不同电解质溶液对Ni腐蚀行为的影响

分别对不同酸度、离子强度、离子迁移速率的电解质溶液中镍电极的电化学腐蚀行为进行了测定．并研究了酸性溶液中氯离子对镍电极溶解、钝化、孔蚀等过程的影响．实验表明，提高溶液酸度和离子强度，都会加大金属镍的腐蚀速率，对金属卤化物而言，阳离子迁移速率越小的溶液对金属的腐蚀越严重，在0．1mol／L硫酸溶液中，氯离子的含量超过0．03mol／L时，就会有明显的孔蚀现象发生．     

原位电沉积活性镍对苯乙酮加氢还原的电催化作用

用循环伏安法研究了在光谱纯石墨电极上原位电沉积活性镍对氢析出及苯乙酮的加氢还原作用。结果表明,当溶液中加入少量镍离子后,在石墨电极表面会连续沉积活性镍,从而能不断地催化苯乙酮的加氢还原,并大大增加氢析出和苯乙酮加氢还原的电流.进一步研究苯乙酮加氢还原的循环伏安特性表明,在本条件下,苯乙酮的还原是电化学反应完全不可逆的EC过程.     

在电沉积镍－钼合金上的析氢反应

本文运用极化曲线和电化学阻抗图谱等方法，研究了含钼量不同的镀液电沉积镍铝钼金在７ｍｏｌ．Ｌ－１氢氧化钠溶液中的析氢动力学过程．实验结果表明，随着镀液钼含量的增加，镀层的析氢催化活性大大增加，其活性大大超过纯镍和纯钼电极．同时初步探索了各种沉积条件对析氢催化活性的影响．     

AM60镁合金上两种化学镀镍方法及镀层耐蚀性比较

研究了两种在AM60镁合金上化学镀镍的方法,结果表明，在硫酸镍为主盐的溶液中和在碱式碳酸镍为主盐的溶液中，在AM60镁合金表面均可沉积出化学镀镍层．从硫酸镍溶液中沉积出的Ni-P合金镀层与从碱式碳酸镍溶液中沉积的镀层相比，磷含量更高，晶粒更为细小，镀层更均匀致密．动电位极化曲线测试结果表明，两种镀层自腐蚀电位均接近-0．4V（SCE），硫酸镍体系化学镀镍层钝化区间更为明显，耐蚀性能更为优异．     

[Mn(CHZ)3](CIO4)2的极谱伏安行为研究

以硼酸缓冲溶液和氨水缓冲溶液的混合溶液为底液,使用示差脉冲法（DP）、方波法（SqW）和循环伏安法（CV）研究了在不同pH值条件下[Mn（CHZ）3]（ClO4）2的极谱伏安行为（CHZ：碳酰肼）。实验结果表明,[Mn（CHZ）3]（ClO4）2在电极表面具有吸附性,在DP和SqW方法中峰电位与pH值呈线性关系;而在CV法中峰电位则不受pH值的影响。极谱伏安法适合于该配合物的检测,并且具有灵敏度高、操作简单、快速等优点。     

维生素K3的电化学研究

采用单扫示波极谱法，ＶＫ３在０．１ｍｏｌ／ＬＮａＣｌ底液中，于－０．４６Ｖ（ＳＣＥ）处有一良好的二阶导数峰，峰高与浓度在５×１０－７～２×１０－５ｍｏｌ／Ｌ范围内成线性关系，检测限为２．５×１０－７ｍｏｌ／Ｌ．当ｐＨ值小于３．６０时，ＶＫ３与氢离子作用，于零伏左右有一准可逆的２ｅ－＋Ｈ＋波；当ｐＨ值大于３．６０时，用低扫速的卷积伏安法观察，可发现ＶＫ３有双锋，说明有反应中间体存在，在水合介质中其反应机理是可逆的逐级双电子过程．此外，还对底液中溶解氧的影响进行了讨论．     

HCO3-/CO32-浓度对X70管线钢钝化行为的影响

采用动电位扫描法、循环伏安法研究了X70管线钢在不同浓度的NaHCO₃ /Na₂CO₃ 溶液中的钝化行为。结果表明,材料在该体系中具有明显的钝化现象,随溶液浓度升高,X70钢钝化变得困难。利用Parkins的边界条件,确定了X70钢在1mol/LNaHCO3 +0.5mol/LNa₂CO₃ 溶液中发生应力腐蚀开裂的敏感电位区间为-560～-650mV。X70钢在钝化过程中表面发生的反应比较复杂,电极过程包含Fe的阳极溶解、生成钝化膜、钝化膜的化学溶解三种过程。用X-射线衍射分析了X70钢在活化钝化过渡区表面钝化膜的组成,证实了对电极过程的分析。     

[Mn(CHZ)_3](ClO_4)_2的极谱伏安行为研究

以硼酸缓冲溶液和氨水缓冲溶液的混合溶液为底液,使用示差脉冲法(DP)、方波法(SqW)和循环伏安法(CV)研究了在不同pH值条件下[Mn(CHZ)3](ClO4)2的极谱伏安行为(CHZ:碳酰肼)。实验结果表明,[Mn(CHZ)3](ClO4)2在电极表面具有吸附性,在DP和SqW方法中峰电位与pH值呈线性关系;而在CV法中峰电位则不受pH值的影响。极谱伏安法适合于该配合物的检测,并且具有灵敏度高、操作简单、快速等优点。     

C60Ni(PPh3)2配合物的合成和性质研究

采用配体取代法合成出C60Ni(PPh3)2，利用元素分析、红外光谱、光电子能谱对产物进行表征，研究了产物的热稳定性和氯化还原性能。     

线性扫描伏安法电流方程及其导数的研究

用半微积分算符推导出线性扫描伏安法的电流方程,并用G1-算法编程解这电流函数,得到的结果与Oldham的结果一致,同为当前测得最准确的值;还用一个式子综合表示各阶导数,较准确地得到常规和各阶(一、二、三阶)导数的理论图形及其峰电流和峰电势方程。     

HCO_3~-/CO_3~(2-)浓度对X70管线钢钝化行为的影响

采用动电位扫描法、循环伏安法研究了X70管线钢在不同浓度的NaHCO3 /Na2 CO3 溶液中的钝化行为。结果表明 ,材料在该体系中具有明显的钝化现象 ,随溶液浓度升高 ,X70钢钝化变得困难。利用Parkins的边界条件 ,确定了X70钢在 1mol/LNaHCO3 0 5mol/LNa2 CO3 溶液中发生应力腐蚀开裂的敏感电位区间为 - 5 6 0～ -6 5 0mV。X70钢在钝化过程中表面发生的反应比较复杂 ,电极过程包含Fe的阳极溶解、生成钝化膜、钝化膜的化学溶解三种过程。用X 射线衍射分析了X70钢在活化钝化过渡区表面钝化膜的组成 ,证实了对电极过程的分析     

平行催化体系线性与阶梯扫描伏安法的对比

推导了平行催化体系线性扫描伏安法（ＣＬＳＶ）与阶梯扫描伏安法（ＣＳＣＶ）皆适合的电流理论方程，使这两种基本电分析方法得到有机的统一，从而说明ＣＳＣＶ是ＣＬＳＶ的近似，ＣＬＳＶ是ＣＳＣＶ的极限；在此基础上，详细讨论了ＣＬＳＶ与ＣＳＣＶ相似性的内在联系．结果表明：在阶梯数不多的情况下，取适当的采样分率，可使两者的重合性程度达到最佳．在化学反应速度常数值较大时，两者可简化为相同的电流方程     

大黄素的吸附伏安行为及定量测定

大黄素在1％硼砂底液中，有一灵敏的吸附伏安还原峰．峰电位为-0．86V(vs.Ag／AgCl)．在电位-0．3V下预富集，采用微分脉冲吸附溶出伏安法测定，其检测限可达8．0×10^-10mol／L，大黄素在1×10^-8～1×10^-6mol／L浓度范围内．峰电流与浓度呈线性关系此法简便、快速、可靠．     

铕-联吡啶配合物与DNA作用的研究

用循环伏安法和差示脉冲伏安法研究了金属配合物Eu(bpy) 3 3 与DNA的作用模式 ,表明Eu(bpy) 3 3 以静电模式与DNA作用 .这一结果经荧光法进行了验证