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相似文献
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1.
MEVVA源离子束合成镧硅化物   总被引:1,自引:0,他引:1  
用MEVVA离子源将La离子注入到单晶硅中形成掺杂层,用XRD,SEM分子掺杂层的物相和表面形貌。分析表明,在强流离子注入后,掺杂层中有硅化物形成,且形成相的种类与注量,束流密度及后续热处理条件密切相关,对La硅化物的形成过程进行了讨论。  相似文献   

2.
用MEVVA离子源将La离子注入到单晶硅中形成掺杂层 ,用XRD ,SEM分析了掺杂层的物相和表面形貌 .分析结果表明 ,在强流离子注入后 ,掺杂层中有硅化物形成 ,且形成相的种类与注量、束流密度及后续热处理条件密切相关 .对La硅化物的形成过程进行了讨论 .  相似文献   

3.
离子注入形成FeSi2埋层的电镜研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
利用MEVVA离子源将Fe离子注入到Si基体中会生成一层铁硅化物薄膜.利用电子显微镜,研究了这层铁硅化物的显微结构及其在随后的升温退火过程中发生的变化.研究结果表明,在离子注入剂量为1×1017/cm2的未退火样品中,亚稳的γ-FeSi2相占大多数,同时有少量的由CsCl结构派生的缺陷相Fe1-XSi.在(100)取向的Si片上,这个硅化物层埋在硅基体中,形成了厚度为25nm左右的埋层(buriedlayer)结构  相似文献   

4.
MEVVA离子源金属掺杂蓝宝石着色的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
利用金属蒸气真空弧(MEVVA)离子源将金属离子掺杂到无色人工合成蓝宝石中。研究在不同元素的注入条件下和退火过程中蓝宝石的着色情况。利用RBS研究掺杂元素在蓝宝石表面的分布状况,XRD分析蓝宝石金属掺杂层的物相变化,通过对金属掺杂蓝宝石的可见光吸收的测试,获得掺杂元素与蓝宝石着色的关系。  相似文献   

5.
金属蒸汽真空弧放电能够产生高密度的金属等离子体.通过二或三电极引出系统,可以把金属等离子体中的 金属离子引出,并加速成为载能的金属离子束,这是 MEVVA 离 子 源 技 术.将 载 能 离 子 束 用 于 离 子 注 入,可 以 实 现 材 料 表面改性.经过 MEVVA 源离子注入处理的工具和零部件,改性效果显著,因此 MEVVA 离子源在离子注入材料表面改 性技术中得到很好的应用.另一方面,利用弯曲磁场把等离子体导向到视线外的真空靶室中的同 时,过 滤 掉 真 空 弧 产 生 的液滴(大颗粒),当工件加上适当的负 偏 压 时,等 离 子 体 中 的 离 子 在 工 件 表 面 沉 积,可 以 得 到 高 质 量 的、平 整 致 密 的 薄 膜,称为磁过滤等离子体沉积.是一种先进的薄膜制 备 的 新 技 术.此 外,将 MEVVA 离 子 注 入 与 磁 过 滤 等 离 子 体 沉 积 相 结合的复合技术,可以首先用离子注入的方法改变基材表面的性能,再用磁过滤等离子体沉积的 方 法 制 备 薄 膜,可 以 极 大的增强薄膜与基材的结合强度,得到性能极佳的薄膜.适用于基材与薄膜性能差别大,结合不 易 的 情 况(例 如 陶 瓷、玻 璃表面制备金属膜).本文简要介绍了 MEVVA 离子注入技术、磁过滤等离子体沉积技术和 MEVVA 复合技术的发展和 应用状况   相似文献   

6.
采用力学拉伸试验、透射电镜、扫描电镜等测试手段研究了稀土元素Er,Y,Ce对FVS0812合金挤压棒材的力学性能和显微组织的影响,并通过考察稀土元素与合金组成元素之间的交互作用强度,定性地分析了稀土元素在快凝AlFeVSi合金中的作用机理.结果表明,Er促使粗大块状δ相的形成,加Y则有较粗大的类球形第2相Al20(V,Fe)2Y的析出,而Ce没有生成其它相,但是明显细化了Al12(Fe,V)3Si硅化物质点,因此,采用Ce合金化可以改善合金显微组织,明显改善快凝AlFeVSi合金力学性能.稀土元素对快凝AlFeVSi合金组织性能以及第2相稳定性的影响主要与稀土元素晶体结构、原子半径、电负性等因素有关  相似文献   

7.
采用脱氯化氢反应合成出氯仿可溶性的MEH-PPV聚合物,用MEH-PPV作为发光材料制备了单层结构ITO/MEH-PPV/Al和双层结构ITO/MEH-PPV/Alq3/Al电致发光器件,测量了器件的电致发光谱、I-V特性和B-V特性,利用能级理论分析了器件的发光特性了随器件结构的不同所具有的规律,实验表明,单层结构器件和双层结构器件的发光出现在MEH-PPV层,当加入Alq3电子传输层/空穴阻挡  相似文献   

8.
C,W和C+W离子注入钢表面纳米相镶嵌复合层结构电?…   总被引:1,自引:0,他引:1  
选取质量差异很大的C,W和C+W对钢进行离子注入,用TEM对注入样品横截面进行结构分析。结果表明:注入层结构发生了明显的变化,形成了纳米相镶嵌复合层,W注入复合层的厚度大约是相应离子射程的16.3倍。  相似文献   

9.
用溶胶-凝胶法制备掺杂钕离子的TiO_2纳米粒子,并研究钕离子掺杂对TiO_2相结构和光催化活性的影响。结果表明:掺杂钕离子能抑制锐钛矿相向金红石相转变,并能抑制TiO_2晶粒长大;掺杂钕离子能提高TiO_2的光催化活性,掺杂量为0.069%时,光催化活性最高。  相似文献   

10.
PVC/EVA共混体系的韧性、流变性与形态结构的关系   总被引:3,自引:1,他引:2  
用DSC、TEM、SEM与毛细管流变仪等对PVC/EVA材料的相容性、流变行为、加工条件与结构、性能间的关系做了较深入而全面的研究.结果表明:相容性与加工条件对材料的形态结构与性能有重要影响;随着EVA含量或EVA中VA含量的增加,EVA相从分散颗粒逐渐转变到连续网络,且随着这种形态转变,材料便从脆性过渡到韧性;材料的熔体属于非牛顿流体中的假塑性流体.  相似文献   

11.
钕离子掺杂对TiO2相组成和光催化活性的影响   总被引:3,自引:0,他引:3  
用溶胶-凝胶法制备掺杂钕离子的TiO2纳米粒子,并研究钕离子掺杂对TiO2相结构和光催化活性的影响,结果表明:掺杂钕离子能抑制锐钛矿相向金红石相转变,并能抑制TiO2晶粒长大;掺杂钕离子能提高TiO2的光催化活性,掺杂量为0.069%时,光催化活性最高。  相似文献   

12.
研究了运用离子束缺陷工程提高离子注入Si中掺杂激活的新方法,MeV高能Si注入被有效地用于防止缺陷(损伤)层对P激活的有害影响,大大提高了掺杂杂质的平均激活水平。  相似文献   

13.
离子束修饰提高钛阴极析氢活性   总被引:2,自引:0,他引:2  
研究了双重离子注入W^+/Ni^+,W^+/Mo^+及溅射Fe后再单离子注入Co^+或W^+等离子束修饰的钛电极在1NH2SO4中的析氢电催化性能,结果表明:与纯钛电极相比,离子束修饰电极的催化析氢活性得到显著改善,其中,注W^+/Ni^+电极的析氢过电位降低300mV,用XPS和AES能谱分析了离子束修饰电极的表面元素及相结构,讨论了修饰电极催化所氢机理。  相似文献   

14.
用RBS及X线衍射研究了硅上钛薄膜退火时形成硅化物的相变和生长动力学。650℃退火形成TiSi_2相,TiSi_2层生长服从Kidon抛物线层生长规律。  相似文献   

15.
Y,Y+C和Y+Cr注入H13钢表面改性研究   总被引:3,自引:11,他引:3  
用MEVVA源引出的强束流Y,Cr,C注入H13钢改善了注入层抗氧化、耐腐蚀和抗磨损特性,探索了表面改性的机理。实验结果表明单注入和Y+C,Y+Cr双注入均能得到表面改性的良好效果,双注入效果略好。表面改性的原因是注入样品氧化前后的结构和合金相发生了明显的变化。上述特性的改善和注入层结构变化、钇铁化物析出相的生成以及铁钇氧化物形成密切相关。这些氧化物经短时氧化(10min)即可形成。由于这些氧化物  相似文献   

16.
在已建立模型的基础上,分析了AlGaAs/GaAsHEMT的几个重要参数(栅长、栅宽、掺杂AlGaAs的厚度、未掺杂AlGaAs层的厚度、AlGaAs层掺杂浓度、栅压、漏压)对其高频特性的影响。  相似文献   

17.
研究了La离子注入H13钢的抗氧化特性,运用扫描电子显微镜(SEM),背散射能谱(RBS)和俄歇电子能谱(AES)对离子注入生成的表面优化层的结构进行了分析,探讨了抗氧化机理,实验结果说明La注入H13钢能够得到表面改性的良好效果。  相似文献   

18.
在10-300K的温度范围内,测量了用液封直拉法(LEC)生长的n-InP经高温退火后形成的未掺杂SI-InP晶体的正电子寿命谱,用PATFIT和MELT两种技术分析了正电子寿命谱。常温下的结果表明,SI-InP中存在甸空位VIn或与杂质的复合体缺陷。观察到在10-220K之间正电子的平均寿命τm随温度的升高而减小,表明上述缺陷是带负电荷的铟空位VIn的氢复合体;但是在低温下还存在正电子浅捕获态。  相似文献   

19.
研究了单(Si^+)双(Si^+/As^+)离子注入半绝缘砷化镓电激活的均匀性,结果表明,LECSi-GaAs衬底中深电子陷阱能级均匀性分布好坏,对注入层电激活性有一定影响,当SI-GaAs中碳含量小于5*10^15cm^-3时,对注入层电激活影响不大,采用多重能量Si^+注入,可改善栽流子纵向分布的均匀性,采用Si^+/As^+双离子注入可改善LEC SI-GaAs衬底中EL2横向不均匀分布对电  相似文献   

20.
奥氏体不锈钢氮离子注入层的研究   总被引:7,自引:0,他引:7  
本文用俄歇能谱仪(AES),结合高精度表面轮廓仪测定奥氏体不锈钢氮离子注入层深度及氮浓度分布.用超显微硬度计(试验载荷为0.1g至2.0g)测量注入层的本征硬度,还用x射线低角度掠射技术(GIXRT)分析注入层的组织结构.研究结果表明:氮离子注入层为过饱和氮的单相国溶体非晶态层,它强化了奥氏体不锈钢表层,提高耐磨性,降低摩擦系数.注入态的耐蚀性优于非注入态.  相似文献   

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