不对称合成技术

不对称合成技术姜标（中国科学院上海有机化学研究所）当前国际化学工业的重点已开始从大品种的化学产品和高聚物逐渐向生产中小型的高精化学产品转移。后者包括医药、农用化学品、香精和特殊化学中间体。这些化学品往往具有复杂的化学结构和手性中心。手性是宇宙间普遍的...     

液体基底表面金属薄膜的特殊力学性能及复杂有序结构

利用真空热蒸发方法在液体(硅油)基底表面制备了铝、铁等多种具有自由支撑边界条件的金属薄膜系统, 研究了其特殊的力学性能及由此引起的复杂表面有序结构. 实验结果表明, 此类薄膜中存在自边界向内部区域呈不断衰减的压应力场, 导致裂纹在薄膜边界处凝聚产生并逐渐往薄膜纵深区域延伸. 由于固体薄膜和液体基底之间的切向作用能几乎为零, 金属薄膜可较自由地在硅油表面作整体滑移运动. 伴随着压应力的不断释放, 裂开后的薄膜片之间发生碰撞挤压并逐渐相互穿插叠加, 最终形成具有反对称特征的带状有序结构. 基于此类薄膜系统特殊的力学行为, 对有序结构的形貌特征和生长机理进行了详细的分析讨论.     

二十世纪九十年代的新技术

引言由于工业的根本变化,拥有许多化学家及化学工程师(主要是发达国家的化学工业前途难卜。据预测,随着工业的进一步发展,90年代化学工业的年增长率将比60、70年代的还低。乙烯是石油化工的主要产品,据(日本)橡胶工业会(SRI)研究,在今后几年中乙烯的年增长率要小于4％(见表1)。尤其在日本,化学工业的增长速度低于国民生产总值(GNP)的增长速度。     

催化研究的进展

催化现象由来已久,早在古代,我国劳动人民就知道通过发酵从淀粉及糖来制酒.至于近代,几乎大部分的化工产品,在其生产过程中均采用催化加工工艺.在化学工业中,催化剂起着极其重要的作用,以至于有人说:“没有催化剂就不能建立现代化学工业.”催化合成氨、甲醇以及石油炼制各种石油化学产品等许多化工过程,都明显地证明这种事实. 新的催化工艺将导致新的化工过程,举例来说,早     

我国明清时期关于无机酸的记载

一在现代农业、工业和国防生产部门中,无机酸和以无机酸为原料的化工产品具有广泛的用途,产量与日俱增。此处所说的无机酸,主要指硫酸、硝酸,盐酸和王水等无机强酸。它们的出现,在化学史中具有很大的意义。因为它使人增加了溶解和处理某些难溶的金属、矿物和其他原材料的能力,同时以无机酸为原料还可得到一系列有用的产品。近代化学工业,首先是近代无机化学工业,正是以酸、碱、盐等生产部门为骨干而发展起来的。本文从中外科技交流史角度,研究我国明清时期关于无机酸的记载。我国古代化学取得不少突出的成就,例如造纸术、火药、瓷器等都发明于我国,本草学和炼丹术也有悠久的发展史,我国还拥有不少有关化学方面的科学家和科技著作。但不可讳     

YBa_2Cu_3O_(7-x)薄膜的临界电流密度J_c(T,H)

高温超导体薄膜无论在基础研究方面还是在高温超导体的应用方面都有十分重要的意义。临界电流密度是应用的关键参数,而且影响临界电流密度的磁通钉扎机制还不清楚,因此制备高质量的薄膜,研究其临界电流密度特点,对超导薄膜的应用和对磁通钉扎机制的理解是     

超薄坡莫合金薄膜

基于辉光放电原理在超高本底真空下制备了Ni81Fe19(12nm)超薄薄膜,其各向异性磁电阻（AMR）变化率达到1．2％,而矫顽力却只有127A／m。同较低本底真空下制备的Ni81Fe19薄膜进行结构比较表明：超高本底真空下制备的Ni81Fe19薄膜表面光滑、平整、起伏小、薄膜致密,结构缺陷较少、而较低本底真空下制备的Ni81Fe19薄膜表面粗糙、起伏小、薄膜较较松、不均匀、结构缺陷较多。     

MgO/α-Al_2O_3单晶衬底上磁控溅射Pt外延薄膜微结构观测分析

采用射频磁控溅射方法在Mg O和α-Al_2O_3单晶基片上沉积制备Pt外延薄膜,研究了衬底晶格结构和沉积氛围对薄膜外延生长晶向和表面形貌的影响.实验研究表明,Pt薄膜外延生长晶向主要受衬底表面晶格结构的影响,沉积氛围主要影响薄膜表面形貌.X射线衍射分析证明了Pt(100)//Mg O(100),Pt(111)//Mg O(111),Pt(111)//α-Al_2O_3(0001)和Pt(111)//α-Al_2O_3(01 12)的晶面外延关系.扫描电子显微镜观测发现15%氧分压氛围沉积在Mg O(111)和α-Al_2O_3(01 12)衬底上的Pt(111)外延薄膜以三角形晶粒密排堆叠形成平整致密的膜面,但膜内存在旋转畴缺陷;而15%氧分压氛围沉积在Mg O(100)衬底上的Pt(100)外延薄膜无旋转畴缺陷,但薄膜表面出现大小不一的微孔.     

快速、无损的大面积石墨烯晶圆转移方法

<正>尽管石墨烯薄膜材料表现出优异的电学、光学等物理化学性质,但相较于石墨烯粉体材料,其商业化应用还远未成熟.基于化学气相沉积法,在金属衬底上生长石墨烯薄膜被认为是批量化制备大尺寸石墨烯薄膜的主流路线.其中,在平整的Cu(111)晶圆衬底上外延生长超平整石墨烯单晶晶圆薄膜,     

不溶性纯丝素薄膜的制备及其机械性能

天然丝素蛋白由于其良好的生物相容性而成为一种具有良好应用前景的生物材料, 但其实际应用受制于其再生后的水溶性及较差的力学性能. 添加其他高分子材料提高材料力学性能会影响其生物相容性, 通过甲醇处理可以改善其不溶性, 但甲醇的毒性可能会影响其生物应用. 报道一种直接制备不溶性纯丝素薄膜而不需要甲醇处理的方法. 傅里叶红外(FTIR)和X射线衍射(XRD)光谱表明, 随浓度的增加, 薄膜中的β折叠构象增加, 当浓度为15%, 干燥温度为60℃时, 材料中的长程 α 螺旋构象基本消失, 薄膜基本不溶于水. 此条件下制备的丝素蛋白薄膜具有优异的湿态机械性能, 最高拉伸强度和断裂伸长率可以达到15.9 MPa和49.4%.     

用对称稜镜耦合器精确测定薄膜参数的方法

光波耦合器的出现是导波光学发展中的重要成就之一。它是向波导薄膜馈送和取出光能、选择激发波导模式、多种导波光学器件基本实验研究以及精确测量波导薄膜参数的不可缺少的重要器件。     

多晶金刚石薄膜的晶粒散射吸收与红外光学增透

一、引言 自Derjaguim等人首次人工合成Si衬底金刚石薄膜以来,金刚石薄膜的研究特别是其功能特性的研究,倍受重视而得到迅速发展。金刚石薄膜良好的光学性质使其有希望成为应用广泛的光学窗口材料。热解化学气相沉积方法可以获得400mm~2以上的大面积金刚石薄膜,这种薄膜是一种多晶薄膜,可以在Si、Ge和石英等光学窗口材料衬底上生长。生长过     

怎样装修有益于健康

造成装修后环境内在质量下降的原因是多方面的,但主要是由材料、造价、市场运作管理和消费者认识水平这4个方面原因造成的,现分别进行分析。 材料是形成装修后环境质量下降的物质条件,是最根本的原因。在装修过程中,要使用大量的化学工业产品,其中很多产品中含有铅、汞     

CeO2/Si薄膜PL谱的“紫移”

利用双离子束外延技术制备了CeO2/Si薄膜,椭圆偏振仪测得薄膜厚度为100nm,折射系数约为2．455,实验中发现未经退火处理的CeO2室温光致发光（PL）谱存在着“紫移”现象,其移动距离约为65m,利用XRD和XPS对薄膜结构及价态进行分析表明,PL谱的移动与氧化物中Ce离子价态有关,当Ce离子价态发生Ce^4 →Ce^3 变化时,其PL谱峰位要从蓝光区向紫光区移动,出现发光锋“紫移”现象。     

超声化学

蝙蝠利用超声波“导航”飞行,妇科医生用超声波检查胎儿,工程师用超声波检查金属而不破坏其整体。超声波是一种重要的技术手段,现在,我们在化学工业中也发现了它的位置。     

表面吸附对掺硼金刚石电极电化学性能的影响

为了阐明氢吸附和氧吸附对掺硼金刚石薄膜电极电化学性能的影响, 考查了表面氢化和氧化处理后金刚石薄膜的微观形貌和组分, 并分别以氢吸附和氧吸附掺硼金刚石薄膜作为工作电极, 进行循环伏安特性和交流阻抗谱测试. 结果表明, 氧吸附金刚石薄膜比氢吸附薄膜电导率小, 表面粗糙度大, sp³/sp²值小. 氧吸附金刚石薄膜电极具有更宽的电化学窗口, 其空间电荷层电阻和电容更大, 极化电阻也比氢吸附金刚石薄膜电极要大. 另外, 探讨了表面吸附对金刚石薄膜电极电化学性能的影响机理, 不同吸附对薄膜电化学性能的影响主要在于吸附改变了表面能带结构.     

Si和Mo基片上气相生长金刚石薄膜的界面状态研究

在低压气相生长金刚石薄膜中,金刚石薄膜与基片间的界面状态是一个十分重要的问题,它不仅与金刚石在异质基片上的成核、生长机理有密切关系,而且在很大程度上决定着金刚石薄膜与基片的粘附性能.近几年来,人们首先较多地研究了单晶Si基片生长金刚石薄膜中的界面状态,认为在金刚石薄膜与Si基片之间存在着一个界面层或过渡层,其主要成分是β-SiC.但也有人认为不存在界面层,金刚石是在Si表面直接生长的.其它基片上生长金刚石薄膜的界面状态也曾见报道.     

臭氧洞『三感』

20世纪末期,是人类从全球角度审视发展问题取得丰富成果的时期.人类关注臭氧洞,便是一个最好的例子. 世界上最著名的化学工业公司--美国杜邦公司最得意的一个产品,当属30年代开发出来的一种氯氟烃化合物,商品名称是氟里昂.作为一种工业用化学物质,人们希望它不容易燃烧,不具有腐蚀性,没有毒性,希望它性能很稳定,还希望它价格便宜.     

还原富钙CaGe:YIG薄膜铁磁共振谱中的分层体模

一、前言 磁性薄膜的铁磁共振谱测量是探测薄膜磁性物理的一个重要手段,由铁磁共振谱随外磁场与膜法线所成角度的变化及其温度特性,可提供丰富的有关薄膜各向异性、表面状况和体不均匀性等多方面的信息。     

利用离子束技术原位制备高温超导薄膜

超导薄膜是高温超导材料弱电应用的关键技术。目前磁控溅射(包括直流和射频)和激光淀积方法已被广泛应用获得高温超导薄膜。相比这两种常用制膜方法,离子束溅射(IBS)具有独特优势。IBS工作气压很低,靶与衬底间不存在外加电场,减少了薄膜中杂质,消除了普通等离子体溅射方法中负离子反溅射有害效应。同时也不存在激光淀积薄膜均匀性差、薄膜中颗粒较大等缺点,是一种很有发展前途的制膜手段。利用离子束技术后退火制备性能较好的