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激光CVD制备a-Si∶H/a-SiC∶H多层非晶薄膜的方法及其光学特性研究
引用本文:吴鼎祥.激光CVD制备a-Si∶H/a-SiC∶H多层非晶薄膜的方法及其光学特性研究[J].应用科学学报,1993(2).
作者姓名:吴鼎祥
作者单位:上海科学技术大学
摘    要:介绍利用激光的光化学反应来分解气体制备α-Si:H/α-SiC:H多层非晶薄膜的方法,并对应用XPS等手段测得的这种非晶薄膜的光学特性进行了讨论.

关 键 词:激光CVD  多层非晶膜  X线光电子分光法  光化学反应

A METHOD TO FORM a-Si:H/a-SiC:H MULTILAYER AMORPHOUS FILM WITH LASER CVD AND THE RESEARCH OF ITS OPTICAL CHAR ACTERISTICS
WU DINGXIANG.A METHOD TO FORM a-Si:H/a-SiC:H MULTILAYER AMORPHOUS FILM WITH LASER CVD AND THE RESEARCH OF ITS OPTICAL CHAR ACTERISTICS[J].Journal of Applied Sciences,1993(2).
Authors:WU DINGXIANG
Institution:Shanghai University of Science and Technology
Abstract:
Keywords:laser chemical vapor deposition  multilayer amorphous film  X-ray photoelectron spectroacopy  photochemical reaction
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