| 退火对TiO2和Ta2O5光学薄膜的结构和光学性质的影响 |
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| 引用本文： | 赖发春,瞿燕,詹仁辉,林丽梅,盖荣权.退火对TiO2和Ta2O5光学薄膜的结构和光学性质的影响[J].福建师范大学学报(自然科学版),2006,22(1):53-56. |
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| 作者姓名： | 赖发春 瞿燕 詹仁辉 林丽梅 盖荣权 |
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| 作者单位： | 福建师范大学物理与光电信息科技学院,福建,福州,350007 |
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| 基金项目： | 福建省科技厅基金资助项目(K04023) |
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| 摘 要： | 将反应磁控溅射制备的二氧化钛和五氧化二钽薄膜在温度400℃的条件下退火处理.利用X射线衍射、原子力显微镜和分光光度计等设备对退火后薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行研究.实验表明:退火后的T iO2薄膜为多晶结构,薄膜的表面粗糙度、折射率和消光系数都出现增大现象.然而,对于退火后的T a2O5薄膜,它的结构还是非晶态,薄膜的表面粗糙度比退火前小;同时折射率和消光系数均有减小.这些结果说明薄膜退火后的特性与薄膜材料的内部结构及结晶转变温度等有密切相关.
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| 关 键 词： | 二氧化钛 五氧化二钽 光学薄膜 特性 |
| 文章编号： | 1000-5277（2006）01-0053-04 |
| 收稿时间： | 2005-08-30 |
| 修稿时间： | 2005年8月30日 |
Effect of Annealing on the Structure and Optical Properties of the TiO2 and Ta2O5 Optical Films |
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| LAI Fa-chun,QU Yan,ZHAN Ren-hui,LIN Li-mei,GAI Rong-quan.Effect of Annealing on the Structure and Optical Properties of the TiO2 and Ta2O5 Optical Films[J].Journal of Fujian Teachers University(Natural Science),2006,22(1):53-56. |
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| Authors: | LAI Fa-chun QU Yan ZHAN Ren-hui LIN Li-mei GAI Rong-quan |
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| Institution: | School of Physics and OptoElectronics Technology, Fujian Normal University, Fuzhou 350007, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiO_2 Ta_2O_5 optical thin films properties |
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