| TiAlN薄膜的磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积制备的研究 |
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| 引用本文： | 梁昌林,程国安,郑瑞廷,韩东艳. TiAlN薄膜的磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积制备的研究[J]. 北京师范大学学报(自然科学版), 2011, 47(3): 249-253 |
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| 作者姓名： | 梁昌林 程国安 郑瑞廷 韩东艳 |
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| 作者单位： | 北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京师范大学核科学与技术学院,100875,北京 |
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| 基金项目： | 国家973计划课题资助项目，教育部重点科技资助项目 |
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| 摘 要： | 采用磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积技术,在室温、钛合金和Si(100)单晶表面制备了TiAlN薄膜.利用SEM、XRD、EDS和XPS等对薄膜的微观组织结构及化学组分进行了观察测试分析,探讨了磁过滤脉冲真空弧等离子反应沉积技术的工艺参数对TiAlN薄膜结构的影响.
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| 关 键 词： | TiAlN薄膜 梯度过渡层 钛合金 组织结构 |
TEXTURE AND PROPERTIES OF TIALN GRADIENT FILMS FABRICATED BY MAGNETRON FILTERED, PULSED VACUUM ARC,PLASMA REACTIVE DEPOSITION |
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| LIANG Changlin,CHENG Guoan,ZHENG Ruiting,HAN Dongyan. TEXTURE AND PROPERTIES OF TIALN GRADIENT FILMS FABRICATED BY MAGNETRON FILTERED, PULSED VACUUM ARC,PLASMA REACTIVE DEPOSITION[J]. Journal of Beijing Normal University(Natural Science), 2011, 47(3): 249-253 |
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| Authors: | LIANG Changlin CHENG Guoan ZHENG Ruiting HAN Dongyan |
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| Affiliation: | (Key Laboratory of Beam Technology and Material Modification of Ministry of Education,College of Nuclear Science and Technology,Beijing Normal University,100875,Beijing,China) |
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