| Pd/a-Ge双层膜中金属诱导晶化引起的分形 |
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| 引用本文： | 张庶元.Pd/a-Ge双层膜中金属诱导晶化引起的分形[J].科学通报,1995,40(10):880-880. |
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| 作者姓名： | 张庶元 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学结构分析开放研究实验室，中国科学技术大学结构分析开放研究实验室，中国科学技术大学结构分析开放研究实验室，中国科学技术大学结构分析开放研究实验室，中国科学技术大学结构分析开放研究实验室，中国科学技术大学基础物理中心 合肥230026 微结构科学技术高等研究中心，南京210093，合肥230026 微结构科学技术高等研究中心，南京210093，合肥230026 微结构科学技术高等研究中心，南京210093，合肥230026 微结构科学技术高等研究中心，南京210093，合肥230026 微结构科学技术高等研究中心，南京210093，合肥230026 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 目前,分形的研究已成为国内外普遍关注的问题.对于金属/半导体二元薄膜体系,在金属诱导非晶半导体晶化的过程中,常常出现雪花状的分形结构.见诸文献的有关报道,多为没有化合物生成的金属、半导体共晶系统,例如Au/a-Ge(Si),Ag/a-Ge(Si)和Al/a-Ge(Si)等等.对于有化合物生成的金属/半导体薄膜体系,这种研究报道很少.段建中等曾在Pd/a-Si中发现了分形,分形出现的同时有多种硅化物产生.对于分形形成的机制,已建立了若干模型,其中扩散限制聚集(DLA)模型是很成功的,但DLA模型难以解释金属/半导体二元薄膜体系中分形的成因.吴自勤教授等根据薄膜体系中分形晶化的微观结构观测,提出了由温度场控制的随机逐次成核(RSN)模型,在解释薄膜的分形晶化时十分令人满意.为
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| 关 键 词： | 分形 晶化 钯 半导体 双层膜 锗 |
| 收稿时间： | 1994-10-19 |
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