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| 掺杂对ZnO半导体薄膜光学性能的影响 | |
| 作者单位： | ;1.中南民族大学电子信息工程学院智能无线通信湖北省重点实验室 |
| 摘 要： | 以掺杂氧化锌(ZnO)陶瓷靶为溅射源材料,采用射频磁控溅射技术在石英玻璃衬底上制备了掺杂ZnO系列半导体薄膜样品.利用紫外-可见分光光度计测量了薄膜的透射光谱,通过Swanepoel法确定了薄膜的折射率和消光系数,利用外推法获得了薄膜的光学带隙,研究了不同掺杂对ZnO薄膜光学性能的影响.结果表明,钛掺杂和镓镁合掺后,ZnO薄膜的透过率和光学带隙增加而折射率减小;所有薄膜的折射率均随波长增加而单调减小,呈现出正常的色散特性. |
| 关 键 词： | 掺杂氧化锌 半导体薄膜 光学性能 |
Effect of Doping on Optical Properties of Zinc Oxide Semiconductor Thin Films |
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