| 使用修正的模拟退火数据处理以提高椭偏测量中薄膜参数的精度 |
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| 引用本文： | 王芳宁,王植恒,姜明. 使用修正的模拟退火数据处理以提高椭偏测量中薄膜参数的精度[J]. 西南民族学院学报(自然科学版), 2006, 32(4): 783-787 |
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| 作者姓名： | 王芳宁 王植恒 姜明 |
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| 作者单位： | 西南民族大学电气信息工程学院,成都,610041 四川大学物理科学与技术学院,成都,610065 西南民族大学电气信息工程学院,成都,610041 |
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| 摘 要： | 数据处理一直是椭偏测量术获取高精度薄膜结构参数的一个难点.有研究者曾将模拟退火算法引入到单波长消光椭偏仪的数据处理中,针对该模拟退火数据处理在获取实验薄膜样品结构参数准确解时出现的困难,本文对其进行了一定的修正:提出了在利用模拟退火算法反演求解薄膜结构参数时引入两种不同测量误差的方法;考虑到多角度测量法在不恰当增加入射角时极易破坏求解的收敛性而得到多解伪解情况,故改选用内外反射法测量吸收薄膜样品.通过大量的模拟计算和实验测量,其结果表明修正后的模拟退火数据处理方法在模拟计算和实验测量中均适用,且能有效避开伪解,得到高精度真值,是提高薄膜参数精度的有效方法之一;同时采用两种不同测量误差的方法还可作为解稳定性和正确性的判据之一.
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| 关 键 词： | 椭偏测量术 精度 修正的模拟退火数据处理 内外反射法 薄膜 |
| 文章编号： | 1003-2843(2006)04-0783-05 |
| 修稿时间： | 2006-04-20 |
Improving the precision of optical parameters of thin films in ellipsometry by using the modified Simulated-Annealing data processing |
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| WANG Fang-ning,WANG Zhi-heng,JIANG Ming. Improving the precision of optical parameters of thin films in ellipsometry by using the modified Simulated-Annealing data processing[J]. Journal of Southwest Nationalities College(Natural Science Edition), 2006, 32(4): 783-787 |
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| Authors: | WANG Fang-ning WANG Zhi-heng JIANG Ming |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ellipsometry precision modified Simulated-Annealing data processing method of internal and external reflection film |
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