| 纳米硅薄膜的压阻效应 |
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| 作者姓名： | 何宇亮 |
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| 作者单位： | 北京航空航天大学非晶态物理与光信息研究室，北京航空航天大学非晶态物理与光信息研究室，北京航空航天大学非晶态物理与光信息研究室，北京理工大学电子工程系，北京理工大学电子工程系 北京100083 南京大学物理系与固体微结构物理实验室，南京210008，北京100083 北京理工大学电子工程系，北京100081，北京100083，北京100081，北京100081 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，航空科学基金 |
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| 摘 要： | 固体纳米材料已被认为是当前极有发展前景的一种人工功能材料.许多先进国家皆已把它列为21世纪重大课题而给予重视.我们使用了常规的PECVD薄膜沉积技术已成功地制备出具有纳米相结构的硅薄膜(nc-Si:H).由于纳米硅膜是由占体积百分比X_c≈50%的细微晶粒(d=3～5nm)及X_I≈50%的晶粒界面所组成,已发现大量界面组织的存在对nc-Si:H膜的结构和物性产生重要的作用.业已观测到,nc-Si:H膜中的界面是由细微晶粒的无规排列
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| 关 键 词： | 纳米硅 界面 压阻效应 薄膜 硅 |
| 收稿时间： | 1994-05-05 |
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