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铟锡氧化物透明导电簿膜的化学喷雾淀积法
引用本文:宋志刚,李长江.铟锡氧化物透明导电簿膜的化学喷雾淀积法[J].北京化工大学学报(自然科学版),1990(1).
作者姓名:宋志刚  李长江
作者单位:北京化工学院应用数理系 (宋志刚),北京化工学院应用数理系(李长江)
摘    要:采用喷雾淀积法(CSD),在预热的普通玻璃基片上成功地制备了铟锡氧化物透明导电薄膜(ITO)。考察了其方块电阻R_□和透射率T_(?)随基片温度、溶液浓度及化学组份的变化,获得了他们的关系曲线。并在一组最佳工艺条件下制备出质量很好的透明导电薄膜,其方块电阻R_□≤70Ω,透射率T_r≥85%。

关 键 词:铟锡氧化物  化学  透明导电薄膜(ITO)  化学喷物淀积法(CSD)

Indium Tin Oxide Transparent Conductive Film Prepared By Chemical Spray Deposition
Song Zhigang Li Changjiang.Indium Tin Oxide Transparent Conductive Film Prepared By Chemical Spray Deposition[J].Journal of Beijing University of Chemical Technology,1990(1).
Authors:Song Zhigang Li Changjiang
Institution:Department of Applied Mathematics and Physics
Abstract:
Keywords:indium  tin  oxide  chemistry  transparent conductive films chemical spray deposition  
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