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| BF_2~+分子离子注入硅中的硼原子深度分布的核反应分析研究 | |
| 引用本文： | 廖常庚.BF_2~+分子离子注入硅中的硼原子深度分布的核反应分析研究[J].科学通报,1989,34(10):796-796. |
| 作者姓名： | 廖常庚 |
| 作者单位： | 兰州大学现代物理系 (廖常庚)，兰州大学现代物理系(郑志豪) |
| 摘 要： | 分子离子注入半导体材料是一个有效的降低杂质原子能量,快速行成非晶层的有效方法。用BF_2~+分子离子注入硅中形成的浅结器件可能较B~+原子离子注入更为有益。测定和研究BF_2~+分子离子注入硅后硼原子的深度分布,并与B~+原子离子注入的深度 |
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