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| 铪基铁电薄膜及其隧道结存储器件研究 | |
| 引用本文： | 察明扬,陈佩瑶,陈琳,朱颢,孙清清,张卫.铪基铁电薄膜及其隧道结存储器件研究[J].湘潭大学自然科学学报,2019(5):78-84. |
| 作者姓名： | 察明扬 陈佩瑶 陈琳 朱颢 孙清清 张卫 |
| 摘 要： | 在信息技术高度发达的今天，传统的信息存储技术正面临着诸多挑战，铁电隧道结等新兴存储器受到了越来越广泛的关注基于氧化铪材料的铁电隧道结存储器具有读写快、能耗低、与传统CMOS工艺兼容等优势该文制备了两种底电极的铪锆氧铁电隧道结，测试其铁电特性和存储性能其中采用铂为底电极的铪锆氧铁电隧道结不仅有较高的剩余极化强度和优秀的疲劳特性，并且在编程速度和响应时间上优于传统的铁电材料，展现出良好的应用前景 |
| 关 键 词： | 存储器 氧化铪 铁电性 铁电隧道结 |
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