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多弧离子镀TiAlN涂层熔滴工艺参数的影响
引用本文:毛延发,宫永辉,杨琳,韩培刚,兰新哲,周廉.多弧离子镀TiAlN涂层熔滴工艺参数的影响[J].内蒙古民族大学学报(自然科学版),2007,22(5):514-517.
作者姓名:毛延发  宫永辉  杨琳  韩培刚  兰新哲  周廉
作者单位:1. 西安建筑科技大学,陕西,西安,710003
2. 深圳大学,广东,深圳,518060
3. 深圳市广大纳米工程技术有限公司,广东,深圳,518172
基金项目:深圳大学校科研和教改项目
摘    要:综合介绍了多弧离子镀TiAlN涂层熔滴颗粒产生的原因,探讨了N2分压和脉冲偏压对熔滴形成的影响.结果表明,TiAlN涂层中的熔滴颗粒密度和直径随N2分压和脉冲偏压峰值的提高而减小.

关 键 词:熔滴  N2分压  脉冲偏压  多弧离子镀
文章编号:1671-0185(2007)05-0514-04
收稿时间:2007-04-21
修稿时间:2007年4月21日

Influence of Technical Parameters on Droplets of TiAIN Coating Deposited by Multi-arc Ion Plating
MAO Yan-fa,GONG Yong-hui,YANG Lin,HAN Pei-gang,LAN Xin-zhe,ZHOU Lian.Influence of Technical Parameters on Droplets of TiAIN Coating Deposited by Multi-arc Ion Plating[J].Journal of Inner Mongolia University for the Nationalities(Natural Sciences),2007,22(5):514-517.
Authors:MAO Yan-fa  GONG Yong-hui  YANG Lin  HAN Pei-gang  LAN Xin-zhe  ZHOU Lian
Abstract:The reasons of droplets formed during the multi - arc ion plating TiAIN coating are summarized also. The influences of N2 partial pressure and negative DC pulse - bias on droplets formation are discussed. The results shows that the density and diameter of droplets become lower with N2 pressure and pulse- bias increase.
Keywords:TiAlN
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