|
|||||
|
|
| TTA—PHEN—吐温80胶束增溶体系荧光分析法测定痕量钐和铕 | |
| 引用本文： | 黄汉国,刘恩博,段文仲.TTA—PHEN—吐温80胶束增溶体系荧光分析法测定痕量钐和铕[J].河北理工学院学报,1985(2). |
| 作者姓名： | 黄汉国 刘恩博 段文仲 |
| 作者单位： | 唐山工程技术学院，唐山工程技术学院，河北化工学院 |
| 基金项目： | 中国科学院科学基金，河北省科委资助的课题 |
| 摘 要： | 2—噻吩甲酰三氟丙酮(TTA)和诸如三正辛基氧化膦(TOPO)、邻菲罗啉(phen)等中性附加配位体所组成的协同萃取体系已应用于荧光分析法测定痕量钐和铕,该体系选择性、灵敏度均颇高,适用于岩石、矿物、生物体的分析,但需使用造成环境污染的有机溶剂。竹田津等将非离子表面活性剂用于荧光分析,免去了有机溶剂萃取操作,方法简便。如:TTA—TOPO—曲拉通X-100体系荧光法测定钐、铕,PTA(三氟乙酰特戊酰甲烷)—TOPO—BL—9EX体系荧光法测定钐、铕、铽 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |