N2O氮化n—MOSFET‘s低温可靠性研究 |
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引用本文: | 徐静平,于军.N2O氮化n—MOSFET‘s低温可靠性研究[J].华中理工大学学报,1999,27(12):21-23. |
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作者姓名: | 徐静平 于军 |
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摘 要: | 通过与热氧化n-MOSFET’s比较,调查了N2O氮化(N2ON)n=-MOSFET‘s在最大衬底电流IBmax和最大栅电流IGmax应力下的低温热载流子效应,结果表明,N2ON器件在低温就在室温一样呈现出大大抑制的热载流子应力感应退化的特性;低温下产生的浅能级陷阱增强了器件的退化,N2O的氮化也大大减少了浅能级陷阱的产生。
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关 键 词: | MOSFEF N2O氮化 热载流子效应 低温 可靠性 |
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