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恒电流电沉积ZnO薄膜及其光电性能研究
引用本文:郭幸语,程树英.恒电流电沉积ZnO薄膜及其光电性能研究[J].福州大学学报(自然科学版),2010,38(2).
作者姓名:郭幸语  程树英
作者单位:福州大学物理与信息工程学院;福州大学化学化工学院;
基金项目:教育部留学回国人员科研启动基金资助项目(LXKQ0801);;福建省自然科学基金资助项目(2009J01285);;福建省教育厅科研资助项目(JB09010)
摘    要:采用恒电流电沉积的方法,在ITO导电玻璃上制备ZnO薄膜.通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜等手段,对制备出的ZnO薄膜进行表征,并研究了溶液的pH值对薄膜的光学性质的影响.结果表明,电流密度为0.175mA·cm-2、pH为4.7时,制备出的ZnO薄膜具有纤锌矿结构,薄膜表面较均匀、致密,具有很好的附着力,在可见和近红外波段透过率约为80%,禁带宽度为3.37eV.光电流测试表明薄膜的导电类型为n型.

关 键 词:恒电流  电沉积  ZnO  薄膜  光电性能  

Electrodeposition and photoelectricl properties of ZnO thin films
GUO Xing-yu,CHENG Shu-ying.Electrodeposition and photoelectricl properties of ZnO thin films[J].Journal of Fuzhou University(Natural Science Edition),2010,38(2).
Authors:GUO Xing-yu  CHENG Shu-ying
Institution:1. College of Physics and Information Engineering;Fuzhou University;Fuzhou;Fujian 350108 China;2. College of Chemistry and Chemical Engineering;Fujian 350108;China
Abstract:
Keywords:constant-current  electrodeposition  ZnO  thin films  photoelectric properties  
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