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Si晶体中60°位错与空位缺陷相互作用的分子动力学研究
引用本文:杨立军,孟庆元,李根,李成祥,果立成. Si晶体中60°位错与空位缺陷相互作用的分子动力学研究[J]. 西安交通大学学报, 2006, 40(11): 1352-1356
作者姓名:杨立军  孟庆元  李根  李成祥  果立成
作者单位:1. 哈尔滨工业大学航天科学与力学系,150001,哈尔滨
2. 哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所,150001,哈尔滨
摘    要:为了研究晶格常数不匹配的异质结结构(Si1-xGex/Si)在生长过程中低温缓冲层内的位错运动特性,在Si晶体中建立了60°位错偶极子,以及相对于位错不同空间位置的5种六边形环状空位缺陷模型.基于分子动力学理论,并通过Parrinello-Rahman方法施加剪应力使位错运动,研究了不同空间位置空位缺陷对于60°位错运动的影响,发现各种类型的空位缺陷均会阻碍位错运动,导致位错线弯曲,而位错远离空位缺陷的部分在交会过程中出现了先加速、后减速的现象.模拟结果表明:使位错不被钉扎住的临界外加剪应力随着温度的上升而减小,在上述模型中当温度达到300K以上就稳定于0.6 GPa附近,小于SiGe体系中的失配应力,说明空位缺陷不会成为60°位错的钉扎点,仅会对其运动产生迟滞.

关 键 词:分子动力学  位错  位错运动  空位缺陷  模拟
文章编号:0253-987X(2006)11-1352-05
收稿时间:2006-03-15
修稿时间:2006-03-15

Molecular Dynamics Simulation of Interaction Between a 60°Dislocation and Vacancy Defects in Si Crystal
Yang Lijun,Meng Qingyuan,Li Gen,Li Chengxiang,Guo Licheng. Molecular Dynamics Simulation of Interaction Between a 60°Dislocation and Vacancy Defects in Si Crystal[J]. Journal of Xi'an Jiaotong University, 2006, 40(11): 1352-1356
Authors:Yang Lijun  Meng Qingyuan  Li Gen  Li Chengxiang  Guo Licheng
Abstract:
Keywords:molecular dynamics  dislocation  dislocation motion  vacancy defect  simulation
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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