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| 化学沉积Ni—P膜电阻器热处理工艺研究 | |
| 作者姓名： | 刘仲娥 袁彩华 |
| 作者单位： | 天津大学电子工程系(刘仲娥)，天津大学分析中心(袁彩华) |
| 摘 要： | 研究热处理工艺对化学沉积金属膜电阻器的温度系数和潮湿系数的影响。发现热处理工艺可使Ni-P膜电阻器获得优良的电性能。对热处理前后的Ni-P膜层做了电子衍射分析,探讨了热处理前后的微观结构。 |
| 关 键 词： | 化学沉积 电阻器 镍－磷膜 热处理 |
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