超声喷雾法制备SnO2:F薄膜及其性能研究 |
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作者姓名: | 施卫 |
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作者单位: | 西安理工大学理学院应用物理系自动化与信息工程学院 |
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摘 要: | 用超声喷雾热解淀积技术制备了SnO2F透明导电薄膜,其电阻率达4×10-4Ωcm,可见光透过率达91%。研究了衬底温度、F/Sn比例对SnO2F薄膜光电特性的影响。XRD分析及SEM观察表明,SnO2F薄膜为多晶结构,平均粒径约50nm。对超声雾化及淀积原理进行了分析,由于溶液的超声雾化微粒均匀性好,载气流量与溶液雾化微粒线度无关,使得超声雾化热解淀积工艺控制相对容易,热解反应类型大多为化学气相淀积,所制备薄膜的均匀性和重复性良好。
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关 键 词: | SnO_2:F薄膜 超声雾化 热解淀积技术 |
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